1) ethyl ammonium chloride
氯化四甲基铵
2) tetramethylammonium chloride
四甲基氯化铵
1.
Tetramethylammonium hydroxide is used in cleaning semiconductor,but metal ions in its primary raw material tetramethylammonium chloride will affect product purity.
四甲基氢氧化铵广泛应用于半导体清洗,而其主要的电解原料四甲基氯化铵中的金属离子含量直接影响产品纯度。
2.
The optimum conditions were tetramethylammonium chloride 0.
选取最佳合成条件为:四甲基氯化铵0。
3.
Tetramethylammonium thiomolybdate,being used as a precursor for molybdenum disulfide,was synthesized at room temperature using an aqueous solution of ammonium tetrathiomolybdate and tetramethylammonium chloride.
通过四硫代钼酸铵与四甲基氯化铵的甲基取代反应合成了四甲基四硫代钼酸铵,并通过四甲基四硫代钼酸铵热解制备了具有较高比表面积的二硫化钼。
3) tetramethyl-ammonium chloride
氯化四甲铵
4) n-Tetradecyl trimethylammonium chloride
十四烷基三甲基氯化铵
5) n,n,n-trimethyl-1-tetradecanaminiu chloride
三甲基十四烷基氯化铵
6) Tetradacyldimethybenzylammonium chloride,TDBA
氯化四癸基二甲基苄铵
补充资料：氯化
见卤化。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条