1) skin conductor
表层导体
2) surface of conductor
导体表面
1.
This paper gives out the reflex coefficient and refraction coefficient of SUPW on the surface of conductor.
本文给出了正弦均匀平面电磁波 (SUPW)对导体表面斜入射时的反射系数与折射系数 ,并经严密推导得到了实数折射角的表示式。
3) surface semi-conductive layer
表面电导层
4) surface layer conduction
表面层电导
5) coated conductor
涂层导体
1.
Structure analysis of Ni-7%W alloy substrate used for coated conductor
涂层导体用Ni-7%W合金基带的织构分析
2.
The high performance Yttrium Barium Copper Oxide (YBCO) coated conductor is promising in electric applications such as cables, motors, energy storage and magnets, due to its high irreversibility field at 77 K.
本文在具有双轴织构的10m级NiW合金基带上动态、连续地制备了具有Y2O3,YSZ,CeO2等多层隔离层的YBCO涂层导体;研究了膜的生长条件及各层膜之间的取向关系等,成功地制备出10m长双轴取向的CeO2/YSZ/Y2O3隔离层,Y2O3,YSZ和CeO2的!扫描半高宽沿长度方向都分布在7°～8。
3.
An overview of the recent progress of 2 G superconductor tapes was provided,and the structures and the fabrication techniques of coated conductor on Ni and Ni.
综述了近年来二代超导带材的发展状况,并对在镍和镍合金基带上制备涂层导体的工艺技术以及其基本结构特征做了较为系统的介绍,包括基带的制备技术、隔离层的生长、化学法和物理气相沉积法生长YBCO等。
6) coated conductors
涂层导体
1.
The metal organic deposition(MOD) of YBa_2Cu_3O_(7-x)(YBCO) using metal trifluoroacetate(TFA) precursor is considered to be a strong candidate as a low-cost fabrication process in coated conductors.
三氟乙酸盐-金属有机沉积技术(TFA-MOD)是制备钇钡铜氧涂层导体的有发展前景的方法之一。
2.
Nowadays, the second generation superconductor, YBC0 coated conductors (CCs), which has promising applied field such as medicine, electricity, military, and electronic industry, attracts a lot of countries scientists and governors attention.
第二代高温超导体——YBCO涂层导体在医学、电力、军事及电子领域拥有非常巨大的应用潜力,目前已成为各国竞相研究开发的重点。
3.
Developing multi-functional single buffer layer is one of the most important challenges for simplification of coated conductors configuration.
获得多功能单一过渡层是简化涂层导体多层结构的主要课题之一。
补充资料：半导体表面
半导体表面
surface of semiconductor
半导体表面Surface of Semieonduetol半导体体内原子排列终止的地方，即半导体与真空或空气相接触的界面。其原子和电子结构与体内的不同。表面特性对半导体器件性能的影响很大。对半导体表面的研究是半导体物理的重要组成部分。 半导体表面科学的研究范围大致分为两部分:①外表面层，即表面最外表面下的几个原子层(相当于几个至几十个埃的厚度)。在这区域内，半导体的原子结构和电子态一般与体内的不同。②内表面层，即几十至几千个原子层(相当于几十至几千个埃的厚度)。在这区域内，能带弯曲，出现空间电荷区 半导体表面物理的早期研究工作，主要集中于内表面层性质的研究。在空间电荷区中，载流子的浓度分布发生变化，导致积累层、耗尽层和反型层的出现。这是金属一氧化物一半导体(MOS)结构器件的物理基础。自20世纪60年代以来，由于超高真空技术以及各种表面能谱分析方法的迅速发展，半导体表面的研究进入了一个新的更加活跃的阶段，主要集中于对外表面层性质的研究。 表面能谱分析以某种粒子射到表面上，与半导体相互作用后，产生并发射出新的粒子，根据入射和出射粒子特征参数之间的关系，获得有关表面性质的信息。最常用的粒子是电子、光子、离子和中子等。按研究对象，表面分析方法主要可分为3类:①用于研究表面的原子结构。常用的有电子显微镜(EM)、低能电子衍射谱仪(LEED)、反射高能电子衍射谱仪(RHEED)、扫描隧道显微镜(S TM)和场离子显微镜(FIM)等。此外，近年发展起来的表面敏感扩展X射线吸收精细结构(SEXAFS)分析方法，可有效地应用于研究表面吸附原子的几何结构，其分辨能力超过LEED。②用于研究表面的电子结构。常用的方法有X射线电子谱(XPS)、真空紫外线电子谱(UPS)。它们又称为化学分析电子谱(ESCA)。此外，还有离子中和谱(l NS)。它与ESCA不同，仅限于分析最外表面层和吸附原子的电子态。③用于研究表面层的化学组分，常用的有俄歇电子能谱(AES)和二次离子质谱(SIMS)近年来，对半导体材料硅和砷化稼(GaAs)的表面性质进行了广泛的研究，获得了丰富的成果。这可大致概括为表面原子结构和表面电子态两个方面。 表面原子结构与体内不同，晶体表面的原子结构只具有二维周期性。LEEI)的实验表明，半导体实际表面层的原子位置存在一定的位移，即二维周期性的基矢与体内的不同。这个现象称为表面重构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条