1) DC magnetization technique
直流磁化技术
2) direct current reactive magnetron sputtering
直流反应磁控溅射技术
3) DC magnetism
直流磁化
1.
This article introduces the improved construction and advantage of new conductor,also,the provent measurements of DC magnetism and its dangerous to resistance transformer is put forward.
介绍了改进后的新型导电体结构及其优点;同时还对电阻焊变压器的直流磁化及其危害提出了几点预防措施。
4) magnetization technology
磁化技术
1.
Applying the magnetization technology in the processing of industrial wastewater is a popular research topic in recent years.
磁化技术是一门新兴的科学技术,将磁化技术应用于工业水的处理,是近年来的热门研究课题。
6) MR technology
磁流变技术
1.
Thanks to the extensive engineering application prospects,MR technology has gradually been the research focus of science and industry.
结合磁流变技术的研究现状和军用装备系统的发展,论述了磁流变技术在军用装备系统中的应用,分析了磁流变技术对于我军装备现代化的重要意义,并指出了发展方向与目标。
补充资料：磁控溅射
分子式：
CAS号：
性质：用一个环形永久磁体在乎板形靶上产生环形磁场，在磁场作用下，电子被约束在一个环状空间内，形成高密度的等离子环。在等离子环内，电子不断地使Ar原子变成Ar离子，Ar离子被加速后打向靶表面，把靶内的原子溅射出来，沉积在基片上形成薄膜。若靶材为导体，溅射电源可用直流或射频电源，如靶材是绝缘体，则必须用射频电源。用多源共溅射加后处理法可制备双面薄膜。将基片放置在靶中心线上，称为正轴溅射，基片放在靶轴线外；称为偏轴溅射。磁控溅射是广泛采用的制膜方法。
CAS号：
性质：用一个环形永久磁体在乎板形靶上产生环形磁场，在磁场作用下，电子被约束在一个环状空间内，形成高密度的等离子环。在等离子环内，电子不断地使Ar原子变成Ar离子，Ar离子被加速后打向靶表面，把靶内的原子溅射出来，沉积在基片上形成薄膜。若靶材为导体，溅射电源可用直流或射频电源，如靶材是绝缘体，则必须用射频电源。用多源共溅射加后处理法可制备双面薄膜。将基片放置在靶中心线上，称为正轴溅射，基片放在靶轴线外；称为偏轴溅射。磁控溅射是广泛采用的制膜方法。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条