1) malleablization by graphitizing
石墨化展性处理
2) graphitization
[,ɡræfitai'zeiʃən]
石墨化处理
1.
Felt-based carbon/carbon (C/C) composites were prepared by a super high pressure impregnation and carbonization process (SPIC) and graphitization at high temperatures.
用超高压液相浸渍和碳化，经石墨化处理制备了毡基碳／碳复合材料。
2.
The graphitization degrees of quasi-3D C/C composites were analyzed through X-ray diffractometer,and the element contents of hydrargyrum,arsenic,plumbum and cadmium in the materials were determined by the atomic fluorescence analyzer.
采用X射线衍射仪和原子荧光分析仪对石墨化处理前后准三维C/C复合材料的石墨化程度及其所含的汞、砷、铅和镉元素含量进行了分析。
3) HTT
石墨化处理温度
1.
The dependence of graphitization degree (g) on HTT (heat treatment temperature) of 8 types of 2D or quasi 2D C/C composites used as braking materials on aircrafts and different in microstructure have been studied using XRD, to characterize their graphitization degrees.
采用XRD法测量和表征石墨化度 ,以数种结构组成各异的二维或准二维现役航空刹车用炭 炭复合材料为对象 ,研究了石墨化度随石墨化处理温度的变化规律 ,推算出了材料的最终石墨化处理温度 ,并从材料的结构组成方面对其可石墨化性能特征进行了分析、比较。
4) Graphite processing
石墨改性处理
5) Graphitic pretreatment
石墨预处理
6) graphitization mechanism
石墨化机理
补充资料：可石墨化炭和难石墨化炭
可石墨化炭和难石墨化炭
graphitizable carbon and non-graphiti zable carbon
兹落 羹…羹~_迄畜一、羹墓蓄退次粉 图2乱层结构中分子层片排列模型 a一难石墨化炭;b一可石墨化炭长a为2.456人，晶胞高C为6.708人，层间距d为3. 354人。在六角平面内碳原子以a键结合，在层与层之间则靠层面间活动的大电子云所提供的键力结合。石墨炭是指具有石墨晶体结构的炭物质，而不考虑它是否存在结构上的缺陷。而焦炭类炭材料则不具备如石墨那样的三维有序结构。焦炭类的分子平面只是近似有序地堆砌，称为乱层结构。根据这些平面堆砌的平行程度，又可以把这类炭分为可石墨化炭和难石墨化炭。分子平面堆砌得很不规则，并在层间有较多空隙(图2。)的炭为难石墨化炭。难石墨化炭的分子堆砌的有序程度只有1一snm，在光学显微镜下无光学活性，所以又称为光学各向同性炭。分子平面排列得比较整齐，层间的空隙也较少(图Zb)的炭为可石墨化炭。可石墨化炭的分子堆砌的有序程度为0.5一20勿m，在偏光显微镜下，旋转载物台时，可看到它们有明暗交替变化，所以又称为光学各向异性炭。 (钱湛芬)keshlmohuatan he nan shimohuata们可石墨化炭和难石墨化炭(g raPhitizable car-bon and non一graphit如ble carbon)可石墨化炭是指在常压下加热到3000℃，可以转化为石墨炭的炭物质，又称易石墨化炭。难石墨化炭则是指在大气压下加热到3000℃也不能转化为石墨炭的炭物质。炭材料的基本结构是石墨结构。石墨的理想晶体结构为，由碳原子组成六角网状分子平面，各平面以平行于基面的方向有序地堆砌。(图1)它的单位晶胞边属 a=2 .456又 图1石墨晶体结构
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参考词条