1) vacuum evaporation
真空蒸壳[法]
2) vacuum distillation
真空蒸馏法
1.
Study on ultrafine and crystal form control of NTO with vacuum distillation;
真空蒸馏法细化NTO及其晶型控制的研究
2.
In this paper, using acetone as the solvent and by changing the distillation temperature, the initial concentration of the solution and the vacuum system parameters, to control the particle size distribution of NTO, which is separated out from acetone solution with vacuum distillation.
采用真空蒸馏法,以丙酮为溶剂,通过改变蒸馏温度、溶液初始浓度、系统真空度等参数,探讨了各因素对NTO重结晶粒度分布的影响,并对超细化NTO进行了表征分析和撞击感度、爆速的测定。
3.
The three main methods for high purity zinc preparation,including electrolytic method,vacuum distillation,zone refining,are summarized and compared in this paper.
本文对目前高纯锌的三种主要制备方法(电解法、真空蒸馏法、区域熔炼法)进行了综述和比较。
3) vacuum evaporation
真空蒸发法
1.
The investigations of ZnSe thin film as a buffer and window material in CIS solar cell deposited by vacuum evaporation was discribed in this paper.
本文用真空蒸发法制备了CIS太阳能电池中做缓冲材料的ZnSe薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)对制备薄膜的表面化学状态及沉积质量进行了研究,并用氩离子溅射进行剥蚀,逐层分析薄膜的化合态随深度的变化关系。
2.
Thin films of SnS were deposited by means of vacuum evaporation.
采用真空蒸发法,在载玻片上制备了SnS薄膜。
3.
In efficient solar cells, CdS films have been deposited by several techniques, such as spray pyrolysis, vacuum evaporation and .
分别采用化学池沉积 ( CBD)和真空蒸发法 ,在三种衬底 (玻片、ITO玻片、Sn O2 玻片 )上沉积 Cd S薄膜 ,并利用扫描电镜 ( SEM)、透射光谱、X射线衍射 ( XRD)等方法对沉积膜进行了测试分析 ,同时阐述了两种不同方法下 Cd S膜的生长沉积机
4) vacuum vaporization method
真空蒸镀法
1.
The organic films are deposited by vacuum vaporization method.
采用直流磁控溅射法沉积阳极ITO薄膜,真空蒸镀法沉积有机膜,直流磁控溅射法沉积Al阴极,制备了8-羟基喹啉铝绿色OLED。
5) Vacuum evaporation-reduction method
真空蒸发-真空还原方法
补充资料：粗锡真空蒸馏除铅铋
粗锡真空蒸馏除铅铋
removal of lead and bismuth from crude tin by vacuum distillation
粗田euxiz卜enkongz卜engliu ehuqianbi原理锡真空蒸馏精炼是以锡和铅、秘在相同温粗锡真空蒸馏除铅秘(removal of lead and度下的蒸气压存在差别为依据的。为叙述方便，今以除bismuth from erude tin by vaeuum distillati一铅为例，说明其原理。表1列举了纯铅、纯锡在不同温拼…兰…已被墨西哥、德国、玻利维亚和澳大利亚等国的炼锡厂温度就能使粗锡中的铅挥发，达到提纯锡的目的。所采用。 表1纯铅和纯锡的蒸气压及其比值一.‘鑫川一孺茹阵声敏健市茹 表2含铅1%的铅锡合金中锡和铅的蒸气压咙剪示澎井蒸棍科礁八蒸 在真空条件下，蒸气压较小的锡在合金溶液中的单相供电38ov，工作空间(d/m)1.6x(h/m)3，工浓度大于其在蒸气中的浓度，因而能提高分离程度。在作温度1473~1673K，炉内压力“.7一6.67Pa，生产真空蒸馏作业中通常维持加b大于真空室内残余压力。能力巧一Zot/d，吨锡电耗500~6ookw·h。炉料由加真空蒸馏除铅的速率与真空度有关，在一定范围内，真料口加入，经过各级蒸发盘后由出锡管流出，多层冷凝空度愈高，扩散愈容易，因而除铅速率愈大。罩将铅冷凝成液态从下面的出铅装置排出。典型的操 设备和工艺各种真空炉中以新西伯利亚炼锡厂作指标列于表3。真空蒸馏除铅、秘是很有效的，缺点BcLll件16.3。/143型真空炉(见图)应用较多。其主要是能耗大。中国云南锡业公司的炼锡真空炉见彩图擂技术规格如下:总功率385kw，主加热器功率230kw，页第10页。 表3粗锡真空蒸馏除铅锡的操作指标斌外茸于才汗 79鄂 新西伯利亚炼锡厂的真空炉 1一出铅装置;2一水冷电杆;3一冷凝草;4一加料管; 5一液料加热盘;6一蔫发盘;7一出锡管;8一出铭压为村
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参考词条