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1)  photoresist optics exposure
光电导曝光
2)  exposure circuit
曝光电路
1.
This paper introduces in detail the development of one of the critical technologies in continuousemmission ballistic dirctor——exposure circuit system of movible photographic plate s rectangular coordinate point-system, induding requirements of circuit sysetm, design plan and principle, concrete circuit s design, and otherparts.
本文较详尽介绍了连发弹道摄影经纬仪的技术关键之一——移动底板直角坐标点系的曝光电路系统研制,包括其电路系统要求,设计方案与原理以及具体电路设计等部分。
3)  electronic exposure
电子曝光
4)  photoelectric exposure meter
光电曝光表
5)  electron beam lithography
电子束曝光
1.
Research of figures with high aspect ratio made by electron beam lithography system;
利用电子束曝光系统制作高深宽比图形的研究
2.
Studies of energy dissipation distribution in low-energy electron beam lithography by Monte Carlo method;
Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律
6)  electron-beam lithography
电子束曝光
补充资料:包围式曝光

包围式曝光(bracketing)是相机的一种高级功能。包围式曝光就是当你按下快门时,相机不是拍摄一张,而是以不同的曝光组合连续拍摄多张,从而保证总能有一张符合摄影者的曝光意图。使用包围式曝光需要先设定为包围曝光模式,拍摄时象平常一样拍摄就行了。包围式曝光一般使用于静止或慢速移动的拍摄对象,因为要连续拍摄多张,很难捕捉动体的最佳拍摄时机。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条