1) laser evaporation and deposition
激光蒸发与淀积
2) laser induced deposition
激光诱发淀积
3) laser deposition
激光淀积
1.
Since a high temperature superconducting thin film was first prepared by Bell Labs using pulsed laser in 1987, the technique of pulsed laser deposition has been developed rapidly.
自 1 98 7年贝尔实验室首次用脉冲准分子激光制备出高温超导薄膜以来 ,脉冲激光淀积技术已得到了蓬勃发展 ,现在已成为最好的薄膜制备技术之一 。
4) laser ablation
激光蒸发
1.
Combined with a DV-Xa calculation,the formation and stability of Six cluster ions produced by laser ablation technique were investigated.
结合ＤＶ－Ｘα方法的理论计算结果，对激光蒸发方法产生的ＳｉｘＮ团簇离子的形成和稳定性进行了细致的研究。
补充资料：化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积是一种气体反应过程。在这个过程中，由某些选定气体的热诱导分解在衬底上形成某种介质层。在硅平面器件及集成电路中最常用的是淀积SiO2，Si3N4和多晶硅。化学气相淀积也广泛用于半导体单晶薄膜的外延生长，特别是多层膜的外延生长。在光电子器件和微波器件的制作中尤其常用。CVD方法视工作时反应室中气体压强不同分为常压、低压和超低压CVD。根据化学反应能量提供方式不同可分为热分解、光加热、射频加热、热丝、光、等离子体增强和微波等离子体增强CVD。按反应气源不同又分为卤化物、氢化物和金属有机化合物CVD（MOCVD）。
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参考词条