补充资料：光敏高分子成像材料

分子式：
CAS号：

性质：是一类在光照下发生光敏聚合或光敏降解的高分子材料。利用曝光与未曝光部分的化学和物理性质的不同，再经进一步的加工过程(定影、显影)，在基体上得到与原图相同的正像或负像的影像结构。是非银盐成像材料的一个重要品种。通常由一种或多种光活性化合物和高分子成膜材料构成。负像成像用光敏聚合及光敏交联法，如自由基光聚合和光引发的阳离子聚合。正性成像则是使曝光部分有更好溶解度，光解产物容易被洗去。另一方法是光敏降解，采用的是丙烯酸酯类及其共聚物。已用于大规模集成电路的制作，光刻制板印刷、可读写式光盘等。

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