1) anti-reflection film
减反射膜，消反射膜，增透膜
2) antireflective film
减反射膜，增透膜
3) Antireflective film
减反射膜
1.
Evaporation and Monitoring of High-efficiency SiO Antireflective Film;
SiO高效减反射膜的蒸镀和监控
4) antireflection films
减反射膜
1.
The properties of coatings are analyzed theoretically and experimentally throughout the deposition process of ZrO2 antireflection films on facets of GaAlAs/ GaAs laser with semiconductor power amplification for the wavelength of 808 nm .
通过对波长808nm的GaAIAs／GaAs半导体功率放大激光器端面镀ZrO2减反射膜工艺过程,从理论和实验上分析了涂层特性,透射率由无膜时的69％和32。
2.
The properties of coatings have been analysed theoretically and experimentally thsoughout the deposition process of SiO antireflection films on facets of 1.
3μm InGaAsP/InP的半导体功率放大激光器端面镀SiO减反射膜工艺过程,从理论和实验上分析了涂层特性,透射率由无膜时的69%和32。
3.
The properties of coatings have been analysed theoretically and experimentally throughout the deposition process of SiO antireflection films on facets of GaAlAs/GaAs laser with semiconductor power amplification,and with a wavelength of 808 nm.
通过对波长808nm的GaA lAs/GaAs半导体功率放大激光器端面镀SiO减反射膜工艺过程,从理论和实验上分析了其涂层特性,透射率由无膜时的69%和32。
5) antireflection coating
减反射膜
1.
Facet antireflection coating of 1.55μm superluminescent diode;
1.55μm超辐射发光管端面减反射膜的研究
2.
Super antireflection coating used in laser system;
激光用高质量减反射膜的制备
3.
IR Antireflection Coatings on Ge Deposited by APS IAD;
应用等离子体离子辅助技术沉积的锗基底红外减反射膜
6) antireflecting film
消反射膜
补充资料：减反射膜
| 减反射膜 antireflecting film 涂敷在透明光学元件表面、用来消除或减弱反射光以达增透目的的光学薄膜。又称增透膜。最简单的减反射膜是单层介质膜，其折射率一般介于空气折射率和光学元件折射率之间，使用最普遍的介质膜材料为氟化镁。减反射膜的工作原理是基于薄膜干涉原理。入射光在介质膜两表面反射后得两束相干光，选择折射率适当的介质膜材料，可使两束相干光的振幅接近相等，再控制薄膜厚度，使两相干光的光程差满足干涉极小条件，此时反射光能量将完全消除或大大减弱。反射能量的大小是由光波在介质膜表面的边界条件确定，适当条件下可完全没有反射光或只有很弱的反射光。单层减反射膜只能对某个波长和它附近的较窄波段内的光波起增透作用，为在较宽的光谱范围达到更有效的增透效果，常使用多层介质膜。常见的多层膜系统是玻璃-高折射率材料低折射率材料-空气，简称gHLa系统。H层通常用二氧化锆（n＝2.1）、二氧化钛（n＝2.40）和硫化锌（n＝2.32）等，L层一般用氟化镁（n＝1.38）等。 减反射膜广泛用于各种光学元件的表面处理，例如照相机镜头上涂减反射膜后，可减少由反射引起的杂散光并显著增加像的亮度。 |
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参考词条