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1)  reflecting anamorphotic optical system
反射变像光学系统
2)  reflecting anamorphotic optical system
反射变形光学系统
3)  reflecting anamorph
反射变像系统
4)  reflective optical system
全反射光学系统
5)  Catadioptric optical system
折反射光学系统
6)  mirror-optical system
反射镜光学系统
补充资料:光学反射膜


光学反射膜
reflecting coating

光学反射膜reflecting coating增加表面镜面反射率的一类光学薄膜。在光学系统中,反射膜与增透膜(见光学增透膜)同样重要,常用做反光、折光和共振腔器件。光学反射膜种类繁多,按薄膜材料可分为金属反射膜、电介质反射膜和金属电解质反射膜;按工作的波段可分为红外反射膜、可见近红外反射膜、紫外反射膜和X射线反射膜;按使用要求可分为部分反射膜、高反射膜和全反射膜;按使用波区宽窄又可分为单波长反射膜、多波长反射膜、窄带反射膜和宽带反射膜。 金属反射膜反射膜中结构比较简单的一种。常用材料有铝、铜、银、金等金属。通常紫外区用铝膜,可见光区用铝膜和银膜,红外区用金膜、银膜和铜膜。此外,铂和铬也用在一些特殊场合。若金属膜折射率为”,消光系数为k,当光束垂直入射到膜面时,薄膜的反射率R为R一(1一”)2+kZ(1+柞)2+kZ 金属反射膜的光学性质完全取决于薄膜材料的折射率和消光系数。由于这类材料在相当宽的波长范围内有较大的消光系数,所以金属膜一般都具有宽带高反射膜的性质。多数金属材料会在空气中受到侵蚀而使金属膜性能下降,为此常在表面附加一层性能稳定的介质膜加以保护。 电介质反射膜最简单的电介质反射膜是由光学厚度都是工作波长的粤,高低折射率交替的两种电介质材~只尸~一’「一一“砂4”,’州份’月刁’~曰”切’一“’“,’一r,料构成。若nH和”L分别表示两种材料的折射率,对于一个由奇数层构成的反射膜,其反射率R为n_[l一(”H/”L)2加+‘(”ZH/ns)12八一t丁不阮而刃声丽而气碗万」式中Zm+1为薄膜的层数;珑为基体材料折射率。在薄膜材料确定的情况下,薄膜的反射率将随着层数的增加而增加。在理想的条件下,可以无限地接近100%,实现真正的全反射膜。但是,由于薄膜材料都存在本征吸收和杂质吸收,薄膜的表面和界面不可能是理想的镜面,所以任何光学薄膜都存在吸收和散射损耗。若加上薄膜厚度控制误差和其他因素的影响,实现100%反射率的反射膜是不可能的。光学薄膜研究的一项重要课题就是降低薄膜的损耗,提高薄膜控制精度,使反射膜达到更高的反射率。目前用于激光陀螺的反射膜,反射率已达99.995%以上。 金属电介质反射膜金属膜的反射率因受材料本身光学常数的限制不可能太高。为了进一步提高金属反射膜的反射率,可在金属膜上镀若干层一定厚度的高低折射率交替的电介质膜,构成金属电介质反射膜。这类薄膜不仅可以提高金属膜的反射率,’还可按一定要求改变金属膜光谱反射特性。另一类金属电介质反射膜是由金属膜和电介质膜交替制成的。在这类反射膜中,金属层起反射层的作用,电介质层起位相调节的作用。它适于缺少高折射率材料的真空紫外或极紫外波段。X射线多层反射膜也是建立在这个设计思想之上的。这类薄膜是由吸收较大和吸收较小的高和低的原子序数(Z)元素交替制成的。目前,由铂/硅材料对构成的130人多层反射膜,垂直反射率已达60%以上。(范正修)
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