1) multiply ionized gass
多离子化气体
2) ionized gas
离子化气体，电离气体
3) coal gasification by microwave plasma
等离子体气化
1.
The author analyzes the affecting factors on coal gasification by microwave plasma,and points out microwave energy in coal gasification has wide foreground.
介绍了微波能用于煤炭气化的研究情况 ,分析了煤炭微波等离子体气化的影响因素 ,指出了微波能在煤炭气化的发展前
5) plasma chemical vapor deposition
等离子体化学气相沉积
1.
Influence of discharge current on hot cathode plasma chemical vapor deposition of diamond films;
放电电流对热阴极等离子体化学气相沉积金刚石膜影响
2.
Effect of plasma chemical vapor deposition parameters on electron property in Ar plasma;
等离子体化学气相沉积参量对Ar等离子体电子特性的影响
3.
The relation between characteristics of hot cathode glow discharge and diamond film deposition techniques in hot cathode glow discharge plasma chemical vapor deposition process was discussed.
研究了在热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中,热阴极辉光放电特性与金刚石膜沉积工艺的关系。
6) PCVD
等离子体化学气相沉积
1.
DEPOSITION THEORY OF THIN HARD PCVD COATINGS;
等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜成膜理论
2.
Si B N composite films had been prepared at proper processing parameters by RF PCVD.
使用工业射频等离子体化学气相沉积 (RF -PCVD)设备 ,通过控制合理的工艺参数 ,在不同的基体负偏压下 ,分别制备出了Si B N非晶以及含有h BN、c BN显著结晶相的Si B N复合薄膜。
3.
SnO 2 Sb thin film is prepared with PCVD The film possesses better gas sensitivity When temperature rises, the response time maintains almost the same but the recovery time reduces and the sensibility gets higher When the temperature reaches 200℃ or more, the sensitivity maintains stable The difference between the sensibility of the resistors of different resistance is small (4 refs
利用等离子体化学气相沉积法制备了ＳｎＯ２－Ｓｂ导电薄膜，测试了ＳｎＯ２－Ｓｂ的气敏效应。
补充资料：离子化
分子式：
CAS号：
性质：又称离子化(作用)。中性原子或分子形成能自由移动的离子的过程。电离有两种情况。(1)气体的电离。中性的原子或分子由于受到高能粒子(电子或离子等)、高能辐射、灼热等因素的作用而失去电子的过程。(2)电解质在溶液中的电离。主要是由于电解质分子受溶剂分子的作用而发生。一般所说的电离是指后一种情况。
CAS号：
性质：又称离子化(作用)。中性原子或分子形成能自由移动的离子的过程。电离有两种情况。(1)气体的电离。中性的原子或分子由于受到高能粒子(电子或离子等)、高能辐射、灼热等因素的作用而失去电子的过程。(2)电解质在溶液中的电离。主要是由于电解质分子受溶剂分子的作用而发生。一般所说的电离是指后一种情况。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条