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1)  flat tool
平面磨光磨具
2)  polishing abrasive tools
抛光磨具
1.
Preparation of granite polishing abrasive tools by hot pressing;
花岗石压制抛光磨具的研制
3)  Surface Grinder
平面磨床
1.
Based on the state-of-the-art of structural analysis of machine tool, considering the lower of process precision of surface grinder, the static and dynamic analysis were performed to components and complete of grinder, using ANSYS FEA software, improvement projects were proposed, also the optimization was carried out and has validated the feasibility of improvement projects.
本文在总结机床结构分析发展现状的基础上,针对某型平面磨床加工精度不高的问题,利用ANSYS有限元软件对其部件及整机结构进行了静、动态分析,提出改进方案,进行优化分析,并对改进后的结构进行了验证。
4)  surface-grinding machine
平面磨床
1.
Improvement on electric lines of M7475B surface-grinding machine;
M7475B平面磨床电气线路改进
2.
Application of hellow cylindrical roller bearing in surface-grinding machine;
空心圆柱滚子轴承在平面磨床上的应用
5)  Plane grinding
平面磨削
1.
Introduced a design method about grinding process based on orthogonal test for indeterminacy of the plane grinding process optimization.
为了充分考虑平面磨削优化过程中的不确定性问题,采用正交试验设计方法进行磨削试验研究。
6)  plane lapping
平面研磨
1.
Research on the uniformity of certain and uncertain eccentricity plane lapping processes;
定偏心和不定偏心平面研磨均匀性的研究
2.
Based on the production practice and aimed at the plane lapping processing technogy and its technology measure for the extra_hard transparent ceramics, the theoretical research was carried out so as to improve the quality in mass production, to reduce cost and to make the material be used more widely.
基于生产实践针对超硬透明陶瓷材料平面研磨加工技术及技术保证措施进行研究 ,以提高批量生产质量、降低成本 ,而使其得到更广泛的应用。
3.
The trace of plane lapping/polishing is reviewed, involving single side and double side lapping/polishing mode.
介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的数学函数及其轨迹均匀性,指出了当前轨迹研究中存在的不足。
补充资料:抛光剂,抛光混合剂
CAS:68909-13-7
中文名称:焙烧提浓的氟碳铈镧矿;抛光剂,抛光混合剂
英文名称:Bastnaesite, calcined concentrate;Calcined bastnasite;bastnaesite, calcined conc.;polishing compound;Bastnaesite,calcined concentrate
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条
 
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