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1)  die-by-die leveling
晶片间调平
2)  die alignment
晶片调准
3)  plane crystal face
平晶片
4)  wafer leveling
晶片平整
5)  parallel plate
平晶,平行片
6)  wafer leveling
晶圆调平
补充资料:平晶
      具有两个(或一个)光学测量平面的正圆柱形或长方形的量规。光学测量平面是表面粗糙度数值和平面度误差都极小的玻璃平面,它能够产生光波干涉条纹(见激光测长技术)。平晶有平面平晶和平行平晶两种。平面平晶用于测量高光洁表面的平面度误差,图1a为用平面平晶检验量块测量面的平面度误差。平行平晶的两个光学测量平面是相互平行的,用于测量两高光洁表面的平行度误差,例如千分尺两测量面的平行度误差(图1b)。平晶用光学玻璃或石英玻璃制造。圆柱形平面平晶的直径通常为 45~150毫米。其光学测量平面的平面度误差为:1级精度的为0.03~0.05微米;2级精度的为0.1微米。常见的长方形平面平晶的有效长度一般为200毫米。
  
  平晶是利用光波干涉现象测量平面度误差的,故其测量方法称为平晶干涉法(图2),也称技术光波干涉法。测量时,把平晶放在被测表面上,且与被测表面形成一个很小的楔角 θ,以单色光源照射时会产生干涉条纹。干涉条纹的位置与光线的入射角有关。如入射光线垂直于被测表面,且平晶与被测表面间的间隙很小,则由平晶测量面P反射的光线与被测表面反射的光线在测量面 P发生干涉而出现明或暗的干涉条纹。若在白光下,则出现彩色干涉条纹。如干涉条纹平直,相互平行,且分布均匀,则表示被测表面的平面度很好;如干涉条纹弯曲,则表示平面度不好。其误差值为,式中a为两干涉条纹间距离,b为干涉条纹的弯曲值,λ为光波波长,白光波长一般以0.6微米计算。
  

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