补充资料：超高纯试剂

分子式：
分子量：
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性质：主要用于电子工业，如电子计算机、光纤通信、卫星通信等。品种有三类。（1）光致抗蚀剂，俗称光刻胶，是精细图形加工的关键材料之一。根据抗蚀剂的感光机理和成像作用的不同，分为正型或负型。根据射源的不同，分为紫外线曝光用抗蚀剂、远紫外线曝光用抗蚀剂、电子束曝光用抗蚀剂、X射线曝光用抗蚀剂。例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚1-丁烯砜、聚甲基异丙烯酮、聚氯甲基苯乙烯等。（2）MOS试剂，MOS是金属氧化物半导体用化学试剂的简称。最大杂质极限要达到10_-10甚至10_-19以下，所含微粒要控制到符合美国材料试验学会（ASTM）和美国宇航局（NASA）标准0级-00级。主要包括集成电路光刻工艺中使用的显影剂、清洗剂、去膜剂、稀释剂和腐蚀剂，也包括部分掺杂材料。例如乙酸、丙酮、氨水、无水乙醇、盐酸、双氧水、硫酸、三氯乙烯、二甲苯等。以上两类又称超净高纯试剂。（3）激光光导纤维用超高纯试剂，制造光导纤维的重要原料。光导纤维通信是近年来发展起来的新型通信技术。它与铜缆相比，具有频率高、容量大、损耗小、质量轻和保密性强等优点。主要有超纯的二氧化硅、原硅酸乙酯、一氧化铅、三氧化二硼、三氧化二砷、碳酸钡、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钙、硝酸钠、硝酸钾等。有害杂质如铜、铁、钴、镍、锰、铬、钒的含量已下降到10_-9级。

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