1) pinch off voltage
夹断电压(场效应晶体管的)
2) FFET
铁电场效应晶体管
1.
A hyperbola model of I _D- V _Gcharacteristics of ferroelectric field-effect-transistors(FFETs) with Ag/Bi_4Ti_3O_ 12gate was brought forward,which is based on the theory of MOS device and the experimental data of the FFET.
在理论分析的基础上,结合铁电材料特性及实验数据,提出了Ag/Bi4Ti3O12栅n沟道铁电场效应晶体管转换(ID-VG)特性的双曲模型并进行了数值模拟。
2.
Objective To investigate characteristics of p-channel field-effect-transistor(FFET) with Metal/ferroelectric/Metal/Insulator/Si substrates(MFMIS) structure.
目的研究金属/铁电/金属/多晶硅/绝缘层/Si衬底(MFMIS)结构的p沟道铁电场效应晶体管的性能。
3) FFETs
铁电场效应晶体管
1.
Metal-ferroelectric-semiconductor field-effect-transistors (FFETs) with Ag/Bi_4Ti_3O_ 12 /p-Si gate were fabricated using the high quality Bi_4Ti_3O_ 12 on p-Si substrates prepared by Sol-Gel technique.
在溶胶-凝胶工艺获得高质量Bi4Ti3O12薄膜的基础上,制备了Ag/Bi4Ti3O12栅n沟道铁电场效应晶体管。
4) ferroelectric field effect transistor
铁电场效应晶体管
1.
Due to the advantage of non-destruction read out, Ferroelectric Field Effect Transistor (FFET) is supposed to be the ideal potential memory device and has been widely investigated.
铁电场效应晶体管(FFET)存储器能够实现非破坏性读出，是一种比较理想的存储方式，因此从一开始就受到人们极大的关注。
6) field-effect photo transistor
场效应光电晶体管
补充资料：晶体管-晶体管逻辑电路
| 晶体管-晶体管逻辑电路 transistor-transistor logic 集成电路输入级和输出级全采用晶体管组成的单元门电路。简称TTL电路。它是将二极管-晶体管逻辑电路（DTL）中的二极管，改为使用多发射极晶体管而构成。TTL电路于1962年研制成功，基本门电路的结构和元件参数，经历了3次大的改进。同DTL电路相比，TTL电路速度显著提高，功耗大为降低。仅第一代TTL电路产品，就使开关速度比DTL电路提高5～10倍。采用肖特基二极管的第三代TTL电路，开关时间可缩短到3～5纳秒。绝大部分双极型集成电路，都是TTL电路产品。 |
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参考词条