1) extra pure reagent
超纯试剂
2) super-pure chemical reagents
超高纯试剂
3) ultra-clean and high pure chemical reagents
超净高纯试剂
1.
The actuality, application and development of ultra-clean and high pure chemicalreagents and photoresists used for the micro-electronic industries in China and in other countriesare reviewed, according to the requests of ultra-clean and high pure chemical reagents and photore-sists for the facture technology of integrate circuit in different fields.
根据集成电路等制作技术不同发展阶段对超净高纯试剂和光刻胶的不同要求,阐述了国内外超净高纯试剂和光刻胶的现状、应用及发展状况等。
4) Super-pure Chemical Reagents isopropyl alcohol
超净高纯试剂异丙醇
1.
Graphite Furnace Atomic Absorption Spectrometry for measuring Micro-amount cadmium in Super-pure Chemical Reagents isopropyl alcohol is better sensitivity than the flame.
研究了超净高纯试剂异丙醇中痕量镉的石墨炉原子吸收光谱测定法。
5) High-purity reagent
高纯试剂
1.
The new super-clean and high-purity reagent and the common CMOS reagent of acidor alkali were used simultaneously by cleaning experiment before grid oxidation in CMOS technology,the metal content of a piece of cleaned silica was measured by ACP-AES, the appearance pattern of apiece of cleaned silica was measured by AFM, MOS electric capacity was measured too.
通过对新型超净高纯试剂同常规CMOS酸碱试剂同时进行CMOS工艺中栅氧化前的清洗实验,从清洗后硅片残留金属量的电感耦合高频等离子体原子发射光谱分析、硅片表面形貌的AFM分析和MOS电容测量三个方面进行了应用实验。
6) purity of reagent
试剂纯度
补充资料：超高纯试剂
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：主要用于电子工业，如电子计算机、光纤通信、卫星通信等。品种有三类。（1）光致抗蚀剂，俗称光刻胶，是精细图形加工的关键材料之一。根据抗蚀剂的感光机理和成像作用的不同，分为正型或负型。根据射源的不同，分为紫外线曝光用抗蚀剂、远紫外线曝光用抗蚀剂、电子束曝光用抗蚀剂、X射线曝光用抗蚀剂。例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚1-丁烯砜、聚甲基异丙烯酮、聚氯甲基苯乙烯等。（2）MOS试剂，MOS是金属氧化物半导体用化学试剂的简称。最大杂质极限要达到10-10甚至10-19以下，所含微粒要控制到符合美国材料试验学会（ASTM）和美国宇航局（NASA）标准0级-00级。主要包括集成电路光刻工艺中使用的显影剂、清洗剂、去膜剂、稀释剂和腐蚀剂，也包括部分掺杂材料。例如乙酸、丙酮、氨水、无水乙醇、盐酸、双氧水、硫酸、三氯乙烯、二甲苯等。以上两类又称超净高纯试剂。（3）激光光导纤维用超高纯试剂，制造光导纤维的重要原料。光导纤维通信是近年来发展起来的新型通信技术。它与铜缆相比，具有频率高、容量大、损耗小、质量轻和保密性强等优点。主要有超纯的二氧化硅、原硅酸乙酯、一氧化铅、三氧化二硼、三氧化二砷、碳酸钡、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钙、硝酸钠、硝酸钾等。有害杂质如铜、铁、钴、镍、锰、铬、钒的含量已下降到10-9级。
分子量：
CAS号：
性质：主要用于电子工业，如电子计算机、光纤通信、卫星通信等。品种有三类。（1）光致抗蚀剂，俗称光刻胶，是精细图形加工的关键材料之一。根据抗蚀剂的感光机理和成像作用的不同，分为正型或负型。根据射源的不同，分为紫外线曝光用抗蚀剂、远紫外线曝光用抗蚀剂、电子束曝光用抗蚀剂、X射线曝光用抗蚀剂。例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚1-丁烯砜、聚甲基异丙烯酮、聚氯甲基苯乙烯等。（2）MOS试剂，MOS是金属氧化物半导体用化学试剂的简称。最大杂质极限要达到10-10甚至10-19以下，所含微粒要控制到符合美国材料试验学会（ASTM）和美国宇航局（NASA）标准0级-00级。主要包括集成电路光刻工艺中使用的显影剂、清洗剂、去膜剂、稀释剂和腐蚀剂，也包括部分掺杂材料。例如乙酸、丙酮、氨水、无水乙醇、盐酸、双氧水、硫酸、三氯乙烯、二甲苯等。以上两类又称超净高纯试剂。（3）激光光导纤维用超高纯试剂，制造光导纤维的重要原料。光导纤维通信是近年来发展起来的新型通信技术。它与铜缆相比，具有频率高、容量大、损耗小、质量轻和保密性强等优点。主要有超纯的二氧化硅、原硅酸乙酯、一氧化铅、三氧化二硼、三氧化二砷、碳酸钡、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钙、硝酸钠、硝酸钾等。有害杂质如铜、铁、钴、镍、锰、铬、钒的含量已下降到10-9级。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条