补充资料：套刻重合

分子式：
CAS号：

性质：晶片上每一点定义的矢量，这是基片几何图形的矢量位置和套刻图形(可以由光致抗蚀剂组成)相应点矢量位置之间的差称作。= 。

说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。