1) desoxyribose
脱羟核糖
2) Hydroxyls of ribose
核糖羟基
3) D-Ribose derivative
脱水核糖
4) phosphoric acid skeleton structure
脱氧核糖
1.
The DNA damage effect induced by He-Ne laser was analyzed from DNA phosphoric acid skeleton structure and conformation,desoxyribose and phosphoric acid-desoxyribose as well as basic group.
从DNA的磷酸骨架基团和构象、脱氧核糖和磷酸-脱氧核糖以及碱基三个方面分析了激光对DNA损伤的效应。
5) ribodesose and ribose
脱氧核糖和核糖
6) 1,4-dehydration ribose
1,4-脱水核糖
补充资料：(1-羟基环己基)[4-(2-羟基乙氧基)苯基]甲酮
分子式：C15H20O4
分子量：264.32
CAS号：852355-66-9
性质：熔点109-111°C。
分子量：264.32
CAS号：852355-66-9
性质：熔点109-111°C。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条