1) ruled diffraction grating
刻线式衍射光栅
2) EDG
蚀刻衍射光栅
1.
Design and sim ulation for devices on Silica-based planar optical waveguide such as MMI couple r , AWG and EDG are discussed, some simulated results finished by COER of Zhejaing University using BPM are given.
Y分支分束器、MMI耦合器、阵列波导光栅 (AWG)和蚀刻衍射光栅 (EDG)等平面波导集成器件正扮演着越来越重要的作用 ,BPM等数值计算方法在这些器件的设计和模拟中也起了重要作用 。
2.
A flat-field etched diffraction grating (EDG) wavelength demultiplexer is much more convenient in fabrication.
利用两点法 (twostigmaticpointsmethod)对平场型蚀刻衍射光栅 (EDG)波分复用器件进行了优化设计 。
3) etched diffraction grating
刻蚀衍射光栅
1.
A design and simulation method based on the method of moment (MoM) is proposed for an etched diffraction grating (EDG) demultiplexer.
介绍了一种将矩量法应用于刻蚀衍射光栅解复用器设计分析的偏振敏感型方法 。
2.
An etched diffraction grating (EDG) demultiplexer is considered as a design example.
介绍了一种低串扰、频谱响应平坦化的刻蚀衍射光栅 (EDG)解复用器的机理与设计方法 ,设计带有预整形输入的优化的多模干涉 (MMI)结构 。
3.
Among various technologies to implement the multiplexing/demultiplexing functionality, etched diffraction gratings (EDGs) have shown great potential due to their compactness and high spectral finesse.
而这其中基于平面波导集成技术设计制作的刻蚀衍射光栅器件，由于具有结构紧凑、光谱性能优异等显著优势，成为其中具有广泛应用潜力的一种。
4) Etched Diffraction Grating(EDG)
蚀刻衍射光栅(EDG)
5) grating diffraction
光栅衍射
1.
Comparison of amplitude vector method and half-wave spectrum method to analyze grating diffraction;
振幅矢量法与半波带法分析光栅衍射的比较
2.
Analyses of grating diffraction by computer simulation;
光栅衍射现象的计算机仿真分析
3.
Testifying secondary maximum among slits interference item of grating diffraction is symmetrical with Fresnel Zone Plate Method;
光栅衍射缝间干涉因子次极大强度对称性的菲涅耳半波带法证明
6) Diffraction grating
衍射光栅
1.
Study of the photoelectric ruling control on the fabricating of the high density diffraction grating;
制作高密度衍射光栅的光电式刻划控制的研究
2.
Super-fine Diamond Tools for Ruling Diffraction Gratings;
超精密金刚石刀具──衍射光栅刻划刀
3.
The second kind angular dispersion and the analysis of characteristics of diffraction grating;
衍射光栅的第二类角色散及其特性分析
补充资料：衍射光栅
| 衍射光栅 diffraction grating 能等宽等间隔地分割入射波前的、具有空间周期性结构的光学元件。常作为色散元件来分离不同波长的谱线。光栅分透射光栅和反射光栅两类。透射光栅按透射率函数的不同可分为普通的矩形透射率光栅和正弦光栅两种。闪耀光栅是反射光栅的一种，有较高的能量利用率，凹面反射光栅能自动聚焦成像。根据制作方法的不同，可分划线光栅、复制光栅和全息光栅3种。 所有光栅的基本原理均相同。以平面透射光栅为例，在平板玻璃上用金刚石刻刀刻划等宽等间距的平行刻线，未刻部分能透光，刻划部分因漫反射而不透光，这等效于大量等宽等间距的平行狭缝。设缝宽为a，不透光部分宽度为b，则相邻两缝的间距d＝a＋b称光栅常数。是光栅的重要参量。光栅的实验装置如图1 ，单色缝光源与光栅的狭缝平行，放置在透镜L1的物方焦面内，从L1射出的平行光垂直入射到光栅上，光栅的每条狭缝都将产生单缝衍射，衍射角为θ的所有衍射光被透镜L2会聚于幕上的P处 ，相干叠加的结果决定了P处的总光强 。幕上干涉主极大的位置由下述光栅方程给定： dsinθ＝kλ (k＝0±1，±2，……)整数k称干涉级，λ为波长。不同波长的主极大位置不同，故光源为复色光时，不同波长成分的主极大彼此分离而成光谱，称光栅光谱。各级主极大的强度要受到单缝衍射的限制，级次愈高强度愈弱，但不同谱线分得愈开，如图2所示。图中虚线表示单缝衍射的分布曲线。注意到所有波长的零级干涉主极大均重合在一起，并落在单缝衍射的中央极大处，无色散的零级主极大占了大部分能量，能量利用率较低。反射式闪耀光栅可把衍射中央极大闪耀到某一级光谱处，大大提高了能量利用率。
波长差相差一个单位的两谱线分开的角间距称为光栅的角色散率，用来描述光栅分开谱线的能力，它由下式给出： 
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条
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