1) cold stone carving
冻石刻
2) Reeze fracture electron microscope
冷冻刻蚀
3) freeze-etching
[英]['fri:z,etʃɪŋ] [美]['friz,ɛtʃɪŋ]
冷冻蚀刻
1.
This paper reveals the recent results of electron microscopic determina- tion of the colloidal structure of some typical lubricating oil detergents by improved freeze-etching method for specimen making.
本文报导了利用改进的冷冻蚀刻制样技术对某些典型的润滑油清净剂进行电子显撤镜观测的研究结果。
4) Intramembranous-particle
冰冻蚀刻
5) stone sculpture
石刻
1.
It can be used as an efflorescenceproof material to protect the stone sculpture along hills.
通过种子乳液聚合制备了有机硅-丙烯酸酯乳液涂料,用于石刻文物的防风化。
2.
When Tang and Song lyric first appeared in history,stone sculptures were used to expand their influences.
石刻是中国古老的传媒之一,唐宋词一登上历史舞台,就利用石刻这一重要媒介扩大自己的影响。
6) Stone carving
石刻
1.
This paper summarizes the hydrogeological surroundings of Dazu stone carvings, and analyzes the mechanism of seepage water disease in this area.
综述了大足石刻区的水文地质条件 ,分析了渗水病害的机理 ,首次提出了采用隧洞排水法治理石刻岩体的渗水病害 ,并在施工实践中取得了良好的效果。
补充资料：电化学刻蚀
分子式：
CAS号：
性质：也称电解浸蚀。在一定的电解液中，采用电化学原理选择性地除去某种金属(或半导体)的过程。可外加电压(为电刷镀的逆过程)或不外加电压(化学刻蚀)。影响电化学蚀刻的因素有电场强度和频率、探测器厚度、蚀刻液浓度和径迹倾角等。化学刻蚀法使用较多，例如在印刷电路板的制作中，通过如下反应：Cu→Cu2++2e-(阳极) ；2Fe3++2e-→2Fe2+(阴极)。按预作保护的图样除去绝缘基板上的铜覆盖层。在微电子装置的制作中，对半导体(如硅)选择性地刻蚀是关键步骤。常用的刻蚀剂有CuCl2，FeCl3，H2CrO4，NH4Cl，H2O2-H2SO4等。
CAS号：
性质：也称电解浸蚀。在一定的电解液中，采用电化学原理选择性地除去某种金属(或半导体)的过程。可外加电压(为电刷镀的逆过程)或不外加电压(化学刻蚀)。影响电化学蚀刻的因素有电场强度和频率、探测器厚度、蚀刻液浓度和径迹倾角等。化学刻蚀法使用较多，例如在印刷电路板的制作中，通过如下反应：Cu→Cu2++2e-(阳极) ；2Fe3++2e-→2Fe2+(阴极)。按预作保护的图样除去绝缘基板上的铜覆盖层。在微电子装置的制作中，对半导体(如硅)选择性地刻蚀是关键步骤。常用的刻蚀剂有CuCl2，FeCl3，H2CrO4，NH4Cl，H2O2-H2SO4等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条