1) plated resist
电镀抗蚀层
2) plated resist
电镀抗蚀剂
3) putter-etching
镀层腐蚀
1.
The effect of discharge treatments such as low-temperature plasma treatment, atmospheric low-temperature plasma treatment and sputter-etching on the surface characteristics of different textile fibres and polymeric materials has been investigated.
本文研究了放电处理如低温等离子体处理、在大气环境中低温等离子体处理及镀层腐蚀对不同纺织纤维及高聚物材料表面性能的影响。
5) etch resistant layer
抗腐蚀层
6) Duplex plating
双层电镀
补充资料：X射线抗蚀剂
分子式：
CAS号：
性质：采用软X射线（波长0.4～5nm）作为曝光源的抗蚀剂。由于X射线波长较紫外波长短两个数量级，几乎没有衍射的干扰，而且因其能量比电子束小得多，可以获得高分辨率，X射线对尘埃的透过性好，曝光工艺的缺陷率就低。所有的电子束抗蚀剂均可作X射线抗蚀剂。
CAS号：
性质：采用软X射线（波长0.4～5nm）作为曝光源的抗蚀剂。由于X射线波长较紫外波长短两个数量级，几乎没有衍射的干扰，而且因其能量比电子束小得多，可以获得高分辨率，X射线对尘埃的透过性好，曝光工艺的缺陷率就低。所有的电子束抗蚀剂均可作X射线抗蚀剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条