1) photolithographic resolution
光刻蚀清晰度
2) optical lithographic resolution
光蚀刻清晰度
3) lithographic resolution
光刻清晰度
4) spot definition
光斑清晰度
5) photomask resolution
光掩模清晰度
6) screen unsharpness
荧光屏不清晰度
补充资料:光刻蚀
分子式:
CAS号:
性质:用照相制版的方法,将光敏高分子制成一定图形的抗蚀性膜,再用化学或电化学方法进行腐蚀或电镀的过程。如印刷线路铜版的制作。
CAS号:
性质:用照相制版的方法,将光敏高分子制成一定图形的抗蚀性膜,再用化学或电化学方法进行腐蚀或电镀的过程。如印刷线路铜版的制作。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条