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1)  low energy gap
窄禁带
2)  bandgap narrowing
禁带变窄
1.
The bandgap narrowing is distributed between the conduction and valence bands,according to the Jain-Roulston model,and its effects on the currents of abrupt AlGaAs/GaAs HBTs including the self-heating effect,are analyzed.
基于禁带变窄量在导带和价带之间的分布比例与掺杂浓度相关的Jain-Roulston模型,研究了重掺杂能带结构的变化对突变异质结HBT电流影响。
3)  narrow gap region
窄禁带区
4)  bandgap narrowing
禁带变窄量
1.
An empirical method is proposed for determining the total bandgap narrowing in the base of a SiGe HBT,which is a function of temperature,impurity concentration and germanium fraction.
分析并计算了不同温度、掺杂浓度以及不同材料的禁带变窄量 ,与实验数据进行了对比 ,两者符合得很好 。
2.
The apparent bandgap narrowing in bipolar transistors with ion implanted and epitaxial Si 0.
采用一种新的方法计算双极器件中离子注 B硅基区和原位掺 B的锗硅基区禁带变窄量 。
5)  small gap materia
窄禁带材料
6)  narrow gap semiconductor
窄禁带半导体
补充资料:窄禁带半导体
      按照固体的能带理论,半导体的价带与导带之间有一个禁带。在禁带较窄的半导体中,有一些物理现象表现得最为明显,最便于研究,因此把窄禁带半导体作为半导体的单独一类。但"窄"的界限并不严格,一般把禁带小于载流子室温热能(k T)的十倍,即小于0.26eV的半导体通称为窄禁带半导体。硫化铅 (PbS)的禁带大于此数,但由于它的性质类似于硒化铅(PbSe,0.165eV,4K)、碲化铅(PbTe, 0.190eV,4K)等,因而也把它归入窄禁带半导体类。
  
  20世纪40年代开始研究窄禁带半导体 PbS,1952年H.韦尔克发现InSb,它是典型的窄禁带半导体,1957年E.O.凯恩的理论阐明了InSb类型的窄禁带半导体的能带结构。1959年起开始研究以HgTe和CdTe为基础的赝二元素中的窄禁带半导体,其中包括禁带宽度为零的半导体。以上发展与红外探测器的发展密切相关。除Hg1-xCdxTe系之外,近年来又发展了一系列赝二元系的窄禁带半导体,也都包括零禁带半导体,如Hg1-xCdxSe,MnxHg1-xTe,Pb1-xSnxTe和Pb1-xSnxSe等。
  
  由于禁带窄,导带与价带的相互影响就比较严重,以致导带的电子能量E与波矢k的关系不再能用抛物线型来近似,而是比抛物线陡得多的曲线。又由于禁带窄,寻常温度下热激发的电子浓度高,费密能级很容易进入导带,必须用费密-狄喇克统计来处理电子输运过程。随着费密能级的升高,反映前述的E(k)的非抛物线型性质,电子的有效质量、不是常数而是逐渐增大。 对于闪锌矿结构的半导体(如InSb,Hg1-xCdxTe 等)导带底的电子有效质量近似与禁带宽度 Eg成正比。Eg愈小,也愈小,同时有效g因子g *也愈大。对于各种磁量子现象、与自旋有关的色散现象,这类半导体是最好的研究对象。
  

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