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1)  electron beam reticle
电子束掩膜
2)  maskless electron beam coating equipment
无掩模电子束镀膜设备
3)  Electron beam /Thin film
电子束/薄膜
4)  electron beam generated mask
电子束技术制造的掩模
5)  electron beam mask generator
电子束掩模图象发生器
6)  electron beam mask system
电子束掩模制造系统
补充资料:掩模版保护膜
分子式:
CAS号:

性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。

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参考词条