补充资料：熔体真空净化

熔体真空净化
vacuum purification of melt

　　rongti zhenkong Jinghua熔体真空净化(vaeuu二purifieation ofmelt)在低于常压的真空中进行除气和除夹杂的熔体护内净化方法。根据气体溶解度与其分压的平方根(s一K勺/了)关系(见熔体氮气净化)，熔体在气体分压极低的真空下吸气倾向趋于零，溶解在熔体中的气体产生强烈的析出倾向，自动由熔体中析出。熔体深处的气体形成气泡上浮至液面，气泡在上浮过程中吸附熔体中氧化夹杂并与气泡一起排除，产生净化作用。真空净化用于钢水和铝合金熔体的处理。铝液真空处理有静态真空处理和动态真空处理两种方法。 静态真空处理铝熔体置于1~4kP。的真空下，恒温保持一定时间，铝液中的氢即会自动析出。由于铝液表面有致密的不A12O。皮膜存在，气体的析出受到了阻碍，这种静态真空处理除气速度慢，净化效果不佳。为了提高除气效果常在熔体表面上撤上一层熔剂，熔剂可以破坏氧化膜对气体的阻碍作用，使气体顺利排出。也可以对熔体施以电磁搅拌，提高熔体深层的除气速度。 动态真空处理预先使真空处理护(见图)达到一定真空度(约IkPa)，然后拔开喷嘴塞棒，熔体会通过喷嘴向真空炉内喷射，并分散成细小液滴，迅速增大了熔体与真空的接触面积，缩<崛辫 6 动态真空处理装里示意图 l一真空炉;2一喷射铝液;3一喷嘴;4一流枪; 5一塞棒;6一气体入口;7一浇口短了析出气体的扩散距离，而且不受表面氧化皮膜的阻碍，气体便可以迅速析出。与此同时，熔体中的钠每1。娘容易被蒸发掉，使熔体得到净化。真空处理后的铝熔体含气量低于。.12cm3，钠含量可降到5xl。““。动态真空处理排气速度快，净化效果好，对环境没有任何污染。 (马宏声)
　　

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