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1)  cathode run
阴极沉积过程<冶>
2)  cathode deposit
阴极沉积物<冶>
3)  cathodic deposition
阴极沉积
4)  FCVPD(filtered cathode vacuum arc deposition)
磁过滤阴极真空弧沉积
5)  filtered cathodic vacuum arc deposition
过滤阴极真空弧沉积
1.
Ta-C films are synthesized by filtered cathodic vacuum arc deposition method.
用磁过滤阴极真空弧沉积 (FCVAD)方法在Si衬底上合成了Ta C薄膜 ,Raman光谱和光电子能谱 (XPS)分析表明衬底加 80~ 10 0V负偏压时合成的Ta C薄膜sp3 键所占比例最高 ,可达 80 %以上 ,并且在Ta C薄膜表面存在一sp3 键所占比例较低的薄层 。
6)  filtered cathode arc deposition
过滤式阴极电弧沉积
1.
The diamond like carbonfilm is achieved by filtered cathode arc deposition.
采用过滤式阴极电弧沉积的方法获得类金刚石薄膜 。
补充资料:阴极电沉积涂料
分子式:
CAS号:

性质:又称阴极电沉积涂料,指以被涂物为阴极,用水性阳离子树脂作电泳涂装的涂料。主要品种有环氧树脂系列、丙烯酸树脂系列、聚氨酯树脂系列等。其特点是在阴极上没有金属溶解,因此可形成不含金属杂质的优质涂膜;耐盐雾性和耐潮性好;不易产生阴离子电泳中常发生的丝锈现象;保色、保光性好,能经受被涂钢板的熔接切割;涂膜防腐能力强。目前,大量用作汽车车身、部件的底漆。

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