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1)  mask artwork
掩膜原图
2)  picture masking
图像掩膜
3)  Figure of mask
掩膜图
4)  original artwork
掩模原图
5)  mask pattern decomposing
掩膜图形分解
6)  rubylith artwork
红膜原图
补充资料:掩模版保护膜
分子式:
CAS号:

性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。

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参考词条