1) mask alignment
掩模对准<测>
2) mask aligner
掩模对准器
3) Mask aligners
掩模对准系统
4) automask aligner
自动掩模对准器
5) proximity mask alignment
接近式掩模对准
6) reticle alignment
中间掩模对准
补充资料:光学掩模版
分子式:
CAS号:
性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号:
性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条