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1)  line cutting technique
线刻技术
2)  photolithography [英][,fəutəli'θɔgrəfi]  [美][,fotolɪ'θɑgrəfɪ]
光刻技术
1.
Research on a Photolithography with LCD Real-time Masks;
液晶实时掩膜光刻技术研究
2.
According to the demand of high data density of IC devices,higher photolithography resolution is required.
光学光刻技术在微细加工和集成电路(IC)制造中一直是主流技术。
3)  etching technique
蚀刻技术
4)  grooving technology
刻槽技术
1.
According to the influencing factors of the skid resistance performance in the pavement,such as structure and material of tunnel pavement,skid resistance structure,road surface pollution, transportation load and so on,the grooving technology is proposed to be used to improve the skid resistance perform.
本文针对影响隧道水泥混凝土路面抗滑性能的几种因素:隧道路面结构与材料、抗滑构造、路表污染、交通荷载等几种因素,提出了采用刻槽技术对隧道水泥混凝土路面进行抗滑性能改善。
5)  lithography [英][lɪ'θɔɡrəfi]  [美][lɪ'θɑgrəfɪ]
光刻技术
1.
The Status and Future of Lithography and It s Application;
光刻技术及其应用的状况和未来发展
2.
This paper has provided auto-focus method of semiconduct photo lithography on Digital Image Processing ,using arithmetic of digital image processing realize auto-focus .
提出了基于图像处理的半导体光刻技术自动调焦的方法,利用图象处理算法实现半导体光刻技术的自动调焦。
3.
This paper highlights the main challenges of IC technology sca ling in deep sub-micron and nanometer, which come from lithography, transistor scaling, sub-threshold leakage, interconnect scaling, power dissipation, platfo rm integration etc.
文中分析了按比例缩小在光刻技术、器件的亚阈特性、互连延迟以及功耗等方面面临的一些问题 ,同时从工艺、器件、电路、设计等方面提出一些相应的解决方
6)  graving technology
刻制技术
补充资料:刻线机
刻线机
graduating machine

   刻制精确分度线纹的机床。分为长刻线机和圆刻线机两类,每类又有普通和高精度两种。其中高精度刻线机对使用环境有特殊要求,必须安装在恒温(20℃±0.05~±0.5℃)室内,并采取防尘、防振等措施。①长刻线机。用来刻划有一定距离精度要求的平行线纹,装有用来预调所需刻划线纹数的计数器,以及校正由丝杆、导轨和其他原因引起的误差的校正装置等,由高精度丝杠控制分度,常用于刻制各种线纹尺、光栅尺、感应同步器及游标卡尺等。②圆刻线机。用于在圆柱面、圆锥面或圆形平面上刻划有一定圆分度精度要求的线纹。普通圆刻线机用于刻制一般度盘,精度为±1′。高精度圆刻线机用于刻制各种光学分度头、光学回转工作台和经纬仪等的度盘,还可刻制圆光栅盘、圆感应同步器和码盘等,分度精度为0.2"~2"。普通圆刻线机大多用阿基米德蜗杆蜗轮副控制分度,蜗轮连同工作台安装在高精度主轴上;高精度圆刻线机一般采用特高精度的球面蜗杆蜗轮副
 
    ,主轴采用带锥度的滑动轴承,精度要求极高。
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参考词条