1) phase-shifter lithography on quartz mask
石英版移相光刻
2) photoengraving
[英][,fəutəuin'greiviŋ] [美][,fotoɪn'grevɪŋ]
光刻，照相版
3) photolithography
[英][,fəutəli'θɔgrəfi] [美][,fotolɪ'θɑgrəfɪ]
光蚀刻微影;光石版照相术
4) phase-shifter lithography on substrate
衬底移相光刻
5) photolithograph
[英][,fəutə'liθəgrɑ:f] [美][,fotə'lɪθə,græf]
照相平版印刷;光刻
6) photomask
['fəutəumɑ:sk]
光刻版
1.
Sizing issue in the data handling of photomask;
光刻版数据处理中的工艺涨缩问题
2.
Relevant data handling and toolutilities are modified to adapt the manufacture of this new type photomask.
提出一种新的UT1X光刻版规格63。
补充资料：为再结合熔融石英制品、熔融石英陶瓷制品
分子式：
CAS号：
性质：又称为再结合熔融石英制品、熔融石英陶瓷制品或石英玻璃烧结制品。具有良好的化学稳定性。抗酸性和抗冲刷性强。高温机械强度大。热膨胀系数低。气孔率低。导电率低。但在1100℃以上长期使用时，制品中的石英会向方石英转变，使制品产生裂纹和剥落。以熔融石英为原料，经粉碎、成型、干燥、烧成而制得。制法有泥浆浇注法、蜡注法、捣打法、半干压法和等静压成型等。由于在烧成时收缩小，可以制得尺寸精确的制品。可用于制作耐酸容器、反应罐内衬耐酸部件等。冶金工业中用其制成浸入式水口，使用效果很好。
CAS号：
性质：又称为再结合熔融石英制品、熔融石英陶瓷制品或石英玻璃烧结制品。具有良好的化学稳定性。抗酸性和抗冲刷性强。高温机械强度大。热膨胀系数低。气孔率低。导电率低。但在1100℃以上长期使用时，制品中的石英会向方石英转变，使制品产生裂纹和剥落。以熔融石英为原料，经粉碎、成型、干燥、烧成而制得。制法有泥浆浇注法、蜡注法、捣打法、半干压法和等静压成型等。由于在烧成时收缩小，可以制得尺寸精确的制品。可用于制作耐酸容器、反应罐内衬耐酸部件等。冶金工业中用其制成浸入式水口，使用效果很好。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条