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1)  ionic contaminant
离子污染物
2)  Cation Contaminants
阳离子污染物
1.
The Determination of Cation Contaminants on Printed Circuit Board by Non-suppression Ion Chromatography;
非抑制型离子色谱法测定印制电路板表面阳离子污染物
3)  Anion contaminants
阴离子污染物
4)  Ionic contamination test
离子污染物测试
5)  non-ionic contaminant
非离子污染物
6)  Ionic Contamination
离子污染
1.
Improving Technique for Reducing Ionic Contamination on PCBs Surface;
降低电路板表面离子污染值的工艺研究
补充资料:离子交换树脂的污染


离子交换树脂的污染
fouling of ion exchange resin

二强帐阴离子交换哪堕工暮姜丽,。l一z一J}aohuon shuzhl de wuron离子交换树脂的污染(fouling。f ion ex-change resin)离子交换树脂在运行过程中吸着在再生过程中难于解析的污染物,以致出现出水水质恶化和交换容量降低的现象。污染有三种类型:①颖粒表面附着了水中的悬浮物或交换过程的产物(如CaSO;等);②某些离子被牢固地吸着于离子交换树脂内部;③离子交换树脂的表面和内部吸着有机物。常见的污染物有铁、铝、钙、硅、油和有机物等。 铁污染在离子交换树脂的应用中,铁污染是常见现象之一。在阳、阴离子交换树脂内都可能发生,阴离子交换树脂的污染比阳离子交换树脂更严重。阳离子交换树脂的铁污染主要来源于进水带来的腐蚀产物.阴离子交换树脂的铁污染主要来源于工业液体烧碱。 遭受铁污染的离子交换树脂可以用10%的温热盐酸浸泡5~12h进行复苏,也可辅以络合剂进行清洗。 铝污染主要发生于阳离子交换树脂。其来源是预处理使用铝盐作为混凝剂的澄清水中的矾花,运行过程中沉积在离子交换器内,在再生过程中被酸溶解,生成A护+,被阳离子交换树脂所吸收,造成污染。另外,使用自来水作为水源,经石灰处理时,矾花溶解,也可能造成铝污染。 复苏的方法与铁污染相同。 钙污染主要发生于用HZSO;再生的阳离子交换器,再生过程中生成的CaSO.沉淀,扭盖于树脂表面.严重时,沉淀堵塞树脂层的孔隙,影响再生效果。 沉淀的少量CaSO。,在运行的过程中,一般不需专门的复苏,用水可以洗去。 硅污染发生于阴离子交换器。硅对强碱树脂造成污染的原因有二:其一是再生废液中的Na:5103,因pH值逐渐降低,变为HZSIO3沉淀出来,砚盖于离子交换树脂表面;其二是强碱阴离子交换树脂吸粉的H:5103,因再生液温度过低或长期在再生剂不足的条件下使用,部分HZSIO3不能再生出来,积聚于离子交换树脂内部。硅对弱碱阴离子交换树脂的污染原因主要是第一种。 复苏的方法是用50~60C,5%~8%的Na0H溶液大剂量再生。 油污染污染离子交换树脂的油,主要是矿物油,一般多来源于生产返回水和加热燕汽。在使用气顶压逆流再生交换器时,也可能来源于压缩空气。矿物油进人离子交换树脂层后,在树脂表面形成油膜,造成离子交换树脂性能的严重恶化。如果带人交换器的是重油,可能在离子交换树脂层中凝成重油块,造成长期污染. 遭受油污染的离子交换树脂可以用有机溶剂或5%~8%Na0H溶液循环清洗,也可辅以超声波清洗、空气擦洗或表面活性剂,以提高清洗效率。
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参考词条