1) reflective projection
镜象投影
2) projection optics
投影物镜
1.
To study the two-mirror reduced projection optics for Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL), Schwarzschild design form and flat field design form were investigated.
极紫外投影光刻(EUVL)两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构。
3) projection lens
投影物镜
1.
Based on étendue, relative illumination of projection lens is analyzed.
基于非成像光学的啨ｔｅｎｄｕｅ量对液晶投影显示照明系统和投影物镜进行匹配 ,对液晶投影物镜的相对照度进行分析 ,根据啨ｔｅｎｄｕｅ量计算照明系统液晶板照明面的发光强度分布 ,与根据朗伯体服从余弦分布的计算相对照度的算法进行比较 ,并对相对照度的Rimmer算法进行修正 ,分析和实验表明 ,修正算法得到的投影物镜相对照度计算更符合实际情况 ,对于投影物镜确定渐晕系数、校正像差有
2.
In order to meet the demand of coma measurement accuracy of lithographic tool projection lens,a novel method for measuring coma based on fine overlay error metrology marks is proposed.
为了满足光刻机投影物镜彗差测量精度的要求,提出一种基于套刻误差测试标记的彗差检测技术,分析了彗差对套刻误差测试标记空间像的影响,详细叙述了该技术的测量原理,并利用PROLITH光刻仿真软件对不同数值孔径与部分相干因子设置下套刻误差相对于彗差的灵敏度系数进行了仿真实验。
3.
In high numerical aperture and low technic factor lithography process,degradation of the image quality because of the coma aberration in the projection lens has become a serious problem.
在高数值孔径、低工艺因子的光刻技术中,投影物镜彗差对光刻质量的影响变得越来越突出,因而需要一种快速、高精度的彗差原位测量技术。
4) mirror projection
镜像投影
1.
The mirror projection is an expression method of using engineering drawing to present space object , the method on space objection making mirror project in engineering drawing in detell is discussed.
镜像投影是为了补充直接正投影法对某些工程构造表达的不足而引入的。
6) eyepiece projection
目镜投影
补充资料：滤波反投影或卷积反投影
滤波反投影或卷积反投影
影像学术语。当代影像学设备进行影像重建的数学方法。在直接用扫描后所获得的投影轨迹剖面图反投影重建出的CT图像中，无法避免角度卷入条纹伪影(angular aliasing streaks)造成的模糊和失真。这种现象与被扫描层面的空间频率中高频信息的损失有关。使用一种精密的数学方法去除这种模糊。称为“展现”(unfolding)或去卷积(deconvolution)，即在反投影前使用一种数学的“滤器”或卷积函数对原始数据进行修正，然后再进行反投影。两步数学处理过程合称为滤波(修正后)反投影或卷积(后)反投影。这种方法的优点是处理过程简单，速度快，所得图像逼真、清晰。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条