1) glow discharge deposition
辉光放电沉积
2) atmospheric pressure glow discharge liquid deposition
大气压辉光放电液相沉积
1.
For example, atmospheric pressure glow discharge liquid deposition (APGDLD) process system, microscopic mechanism of thin film deposition process, plasma discharge power parameters association with the modified material and so on.
虽然,大气压下的辉光放电具有较高的电子能量水平、且不需要真空系统,但是,实际应用还有一些关键技术,如大气压辉光放电液相沉积工艺系统、微观薄膜沉积过程作用机理、等离子体放电电源参数等与改性材料关联问题,有待于进一步研究探讨。
3) direct-current abnormal glow discharge plasma reaction deposition (GPRD)
直流反常辉光放电反应沉积
4) RFGDPECVD
射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积
1.
Preparation technique and performances characterization of diamond-like carbon films by RFGDPECVD method
射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类金刚石碳膜工艺与性能表征
5) glow discharge
辉光放电
1.
Hydrogen generation from reforming of lower alcohols aqueous solution by glow discharge plasma under liquid;
液下辉光放电等离子体重整低碳醇水溶液制氢
2.
An overview on atmospheric pressure glow discharge for textile treatment;
纺织品常压辉光放电等离子体处理技术
3.
Influence of hot cathode glow discharge on the deposition of diamond films;
热阴极辉光放电对金刚石膜沉积的影响
6) glow discharge electrolysis
辉光放电
1.
Degradation of dye wastewater by using glow discharge electrolysis plasma;
辉光放电等离子体降解模拟染料废水的研究
2.
The plasma synthetic processes and advanced oxidation processes induced by glow discharge electrolysis in aqueous solution were reviewed.
分析了溶液中辉光放电等离子体过程中水分子在等离子体层、等离子体-溶液界面和主体溶液中的反应历程;介绍了水溶液体系中辉光放电等离子体电解引发的等离子体合成反应和高级氧化反应;对有机溶剂体系中的辉光放电等离子体电解反应进行了介绍。
补充资料：辉光放电处理
分子式：
CAS号：
性质：对难粘的聚烯烃类塑料表面的处理方法。在基材上或基材下的金属支承物上施加300～1000V的电压，使101Pa的真空室内的气体分子激发活化并吸向电极至基材的表面产生物理化学反应，使基材表面活化，增加黏结力。这种处理方法比电晕放电处理节省能量。
CAS号：
性质：对难粘的聚烯烃类塑料表面的处理方法。在基材上或基材下的金属支承物上施加300～1000V的电压，使101Pa的真空室内的气体分子激发活化并吸向电极至基材的表面产生物理化学反应，使基材表面活化，增加黏结力。这种处理方法比电晕放电处理节省能量。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条