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1)  electron-beam injected transistoramplifier
电子束注入晶体管放大器
2)  bidematron
电子束注入分配放射磁控管放大器
3)  Bidematron (beam injection distributed emission magnetron amplifier)
电子束注入分布发射磁控放大管;比德玛管
4)  beam-plasma amplifier
电子注等离子体放大器
5)  electronbombarded semiconductor amplifier
电子束半导体放大管
6)  chare injection transistor
电荷注入晶体管
1.
To visualize the relationship between the collector current and source-drain voltage in the SiGe/Si chare injection transistor (CHINT), the mathematical model of this device is set up by using the tunnel model of two-dimensional hole gas(2DHG)in SiGe/Si quantum well.
为了能直观地体现SiGe/Si电荷注入晶体管的收集极电流与漏源电压的关系,利用输入端SiGe/Si量子阱中二维空穴气的隧道模型,建立起此类器件的输入输出数学模型,并利用MATLAB软件对所建模型进行了模拟,结果显示在漏源电压约为1。
补充资料:晶体管-晶体管逻辑电路
晶体管-晶体管逻辑电路
transistor-transistor logic
    集成电路输入级和输出级全采用晶体管组成的单元门电路。简称TTL电路。它是将二极管-晶体管逻辑电路(DTL)中的二极管,改为使用多发射极晶体管而构成。TTL电路于1962年研制成功,基本门电路的结构和元件参数,经历了3次大的改进。同DTL电路相比,TTL电路速度显著提高,功耗大为降低。仅第一代TTL电路产品,就使开关速度比DTL电路提高5~10倍。采用肖特基二极管的第三代TTL电路,开关时间可缩短到3~5纳秒。绝大部分双极型集成电路,都是TTL电路产品。
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