1) electron beam coating equipment
电子束蒸镀设备
2) electron beam evaporation equipment
电子束蒸发设备
3) E-beam evaporation
电子束蒸镀
1.
01)O thin films which has been prepared on the (001) plane of Si substrate by the method of e-beam evaporation.
用X射线衍射方法分析了在Si(001)衬底上电子束蒸镀制备的Zn0。
2.
050O thin films prepared by method of e-beam evaporation on Si substrate at 200~500℃for substrate temperatures(Ts) are characterized using x-ray diffraction method, which shows all these films orientating well along \ except the film prepared at 200℃ and having similar crystal parameters.
在200~500℃的衬底温度范围内,用电子束蒸镀法在Si衬底上制备了沿[002]取向的Zn0。
3.
ITO film used in semiconductor LED process is fabricated with vacuum E-beam evaporation.
用真空电子束蒸镀的方法制备半导体发光二极管LED所用的ITO膜,然后在N2气环境中进行快速热退火(RTA)处理,对ITO膜的各项特性进行测试分析。
4) electron beam evaporation
电子束蒸镀
1.
Characteristics of chromium-aluminum-silicon dioxide thin films deposited on PMMA glass substrate by electron beam evaporation process;
有机玻璃基材表面电子束蒸镀铬-铝-二氧化硅薄膜及其性能研究
2.
ZnO;Al(ZAO) films were prepared by electron beam evaporation on Si (100) substrates, followed by annealing in oxygen ambient from 400℃ to 800℃.
采用电子束蒸镀方法在Si(100)衬底上沉积了ZnO:Al(ZAO)薄膜。
5) maskless electron beam coating equipment
无掩模电子束镀膜设备
6) electron beam evaporation plating
电子束蒸发镀
1.
In this present paper,the operation technology for preparation of aluminium-chromium alloy coating by electron beam evaporation plating was studied.
研究了电子束蒸发镀沉积Al-Cr合金涂层的工艺 ,探讨了铬含量对涂层耐蚀性的影响 ,对涂层的物相、形貌以及热处理对涂层和基体之间热扩散的影响进行了分析 。
补充资料:电子束管显示设备
由电子束管显示器件为主体而组成。电子束质量极微,易于控制快速偏移。它在管屏上扫过一个光点所需的时间在微秒之内,描画一个字符仅需几微秒,描画一幅图形仅需几十毫秒。这种快速灵活的特性使电子束管显示设备得到广泛应用。
扫描方式 电子束管显示设备有随机扫描和光栅扫描两种扫描方式。
① 随机扫描:荧光屏上哪里要显示图形迹点,电子束就偏到那里并辉亮,电子束随不同的图形而不规律地扫描,可以描画出平滑连续的线条。
② 光栅扫描:又称电视扫描。电子束在荧光屏上从左到右、从上到下一行行地有规律地扫描,形成一组光栅。根据所需要显示的信息对电子束进行调制,形成图形或有明暗层次的图像。
设备组成 电子束管显示设备由电子枪电路、偏转电路、调制电路、控制电路和刷新存储器组成。
① 电子枪电路:主要包括加速高压电路和聚焦电路。前者产生强电场,使电子束加速而具有一定能量去激活荧光屏发光;后者使电子形成细束,在荧光屏上打出小的亮点。电子束聚焦分电场聚焦和磁场聚焦两种。
② 偏转电路:两组偏转电路分别控制电子束在X和Y方向上的位移,使电子束在荧光屏上描画出二维图形或光栅。电子束偏转方法有电偏转与磁偏转两种。电偏转电子束管有两对(X、Y)偏转板(电极),电子束在管屏上的位移量正比于加到每对板上的电位差;磁偏转电子束管无偏转板,而在管颈外设置两组(X、Y)偏转线圈,位移量正比于加到每组线圈中的电流。两者所用的偏转电路各不相同。
③ 调制电路:控制电子束的有无或强弱,从而消去电子束偏移过程中所描画的不需要的线条或控制光点的亮暗程度,以显现出轮廓清楚、层次分明的图形或图像。
④ 控制电路:产生所需视觉信息相关的偏转信号和同步地产生调制信号。偏转信号送至偏转电路以控制光点的定位和偏移;调制信号送至调制电路控制光点亮暗。
⑤ 刷新存储器:多数荧光屏的发光余辉时间不长,每秒需要重复显示几十次才能不出现闪烁。在应用中,一批信息馈送给显示设备往往仅有一次。因此,必须设置存储器把信息存下来并重复读取,以刷新荧光屏上的显示信息。电子束管显示设备分为直观刷新和直观存储俩种类型。直观刷新类型设备的荧光屏无存储性能,需要重复刷新显示信息以避免闪烁;直观存储类型设备使用直观储存管,因而需要增加存储擦除电路和读出枪电路。
另外还有采用扫描变换管的显示设备。它使一种扫描方式(如雷达平面位置显示)的图形变换成另一种扫描方式(如电视)来显示,以改善某些特性(如高亮度显示),可用以实现随机扫描与光栅扫描的转换。
扫描方式 电子束管显示设备有随机扫描和光栅扫描两种扫描方式。
① 随机扫描:荧光屏上哪里要显示图形迹点,电子束就偏到那里并辉亮,电子束随不同的图形而不规律地扫描,可以描画出平滑连续的线条。
② 光栅扫描:又称电视扫描。电子束在荧光屏上从左到右、从上到下一行行地有规律地扫描,形成一组光栅。根据所需要显示的信息对电子束进行调制,形成图形或有明暗层次的图像。
设备组成 电子束管显示设备由电子枪电路、偏转电路、调制电路、控制电路和刷新存储器组成。
① 电子枪电路:主要包括加速高压电路和聚焦电路。前者产生强电场,使电子束加速而具有一定能量去激活荧光屏发光;后者使电子形成细束,在荧光屏上打出小的亮点。电子束聚焦分电场聚焦和磁场聚焦两种。
② 偏转电路:两组偏转电路分别控制电子束在X和Y方向上的位移,使电子束在荧光屏上描画出二维图形或光栅。电子束偏转方法有电偏转与磁偏转两种。电偏转电子束管有两对(X、Y)偏转板(电极),电子束在管屏上的位移量正比于加到每对板上的电位差;磁偏转电子束管无偏转板,而在管颈外设置两组(X、Y)偏转线圈,位移量正比于加到每组线圈中的电流。两者所用的偏转电路各不相同。
③ 调制电路:控制电子束的有无或强弱,从而消去电子束偏移过程中所描画的不需要的线条或控制光点的亮暗程度,以显现出轮廓清楚、层次分明的图形或图像。
④ 控制电路:产生所需视觉信息相关的偏转信号和同步地产生调制信号。偏转信号送至偏转电路以控制光点的定位和偏移;调制信号送至调制电路控制光点亮暗。
⑤ 刷新存储器:多数荧光屏的发光余辉时间不长,每秒需要重复显示几十次才能不出现闪烁。在应用中,一批信息馈送给显示设备往往仅有一次。因此,必须设置存储器把信息存下来并重复读取,以刷新荧光屏上的显示信息。电子束管显示设备分为直观刷新和直观存储俩种类型。直观刷新类型设备的荧光屏无存储性能,需要重复刷新显示信息以避免闪烁;直观存储类型设备使用直观储存管,因而需要增加存储擦除电路和读出枪电路。
另外还有采用扫描变换管的显示设备。它使一种扫描方式(如雷达平面位置显示)的图形变换成另一种扫描方式(如电视)来显示,以改善某些特性(如高亮度显示),可用以实现随机扫描与光栅扫描的转换。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条