1) electron beam floating zone-melting
电子束悬浮区域熔炼<冶>
2) EBFZM
电子束悬浮区域熔炼(EBFZM)
3) floating zone-melting
悬浮区域熔炼<冶>
4) electron beam floating zone melting
电子束悬浮区熔
1.
As an example of monocrystal W,Mo and alloys,the development of the directional solidification technology with electron beam floating zone melting for the preparation of refractory m.
本文综述了难熔金属及合金的应用和发展,以钼、钨及其合金单晶的发展历程为例,概述了难熔金属单晶的电子束悬浮区熔定向凝固制备技术的发展,简要介绍了难熔金属钼的电子束悬浮区熔定向凝固生长工艺与组织的研究。
2.
The directionally solidified Si-TaSi_2 eutectic in situ composite for field emission was pre- pared with the electron beam floating zone melting (EBFZM) technique.
采用电子束悬浮区熔装置(EBFZM)制备了Si-TaSi_2共晶自生复合场发射材料,系统地研究了Si-TaSi_+2共晶的定向凝固组织特征。
5) electron beam floating zone melting
电子束区域熔炼
6) magnetic suspension zone-melting
磁悬区域熔炼[冶]
补充资料：电子束熔炼
分子式：
CAS号：
性质：又称电子轰击熔炼。在高真空室内，利用电子枪发射出的电子束，对被熔炉料(自耗电极或散料)进行轰击，使电子动能转化为热能而把炉料熔化。真空度要求达到1.33×10-2～1.33×10-4Pa，一般用来生产活性金属、难熔金属如钨、钼、铌、钛、锆、钒等。也可用来生产高质量的轴承钢和超低碳不锈钢。
CAS号：
性质：又称电子轰击熔炼。在高真空室内，利用电子枪发射出的电子束，对被熔炉料(自耗电极或散料)进行轰击，使电子动能转化为热能而把炉料熔化。真空度要求达到1.33×10-2～1.33×10-4Pa，一般用来生产活性金属、难熔金属如钨、钼、铌、钛、锆、钒等。也可用来生产高质量的轴承钢和超低碳不锈钢。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条