1) ionization density distribution
电离密度分布
2) ion-density distribution
离子密度分布
1.
The principle of chaos control and its control methods, halo-chaos formation mechanism andits control methods and ion-density distribution in high intensity beam are summarized in thispaper.
本文综述了混沌控制原理及其控制方法，束晕—混沌的形成机制与控制方法和强流离子束离子密度分布的研究概况。
3) ionic density distribution
离子束密度分布
4) plasma density profile
等离子密度分布
5) current density distribution
电流密度分布
1.
Experiment on current density distribution on plate of different combinations of discharge electrodes with collecting plates;
电除尘器收尘极板表面电流密度分布实验研究
2.
Mathematical model of mixed electrode current density distribution;
混合电极电流密度分布的数值模型
3.
During the micro-electroforming process,the current density distribution in cathode surface has directly impact on the electro-deposition quality.
微细电铸过程中,阴极表面的电流密度分布直接影响沉积层的质量。
补充资料：概率分布的密度
概率分布的密度
density of a probability distribution
概率分布的密度【山画勿ofa声加b正ty业州恤心.;n月。T:oeT‘，.TooeT，]，亦称攀半考枣(pro恤b正tydensity) 与绝对连续概率测度相对应的分布函数(distribU-tionft川ction)的导数. 设X是在”维E切土d空间R”(n)l)中取值的随机向量，F是它的分布函数，并设存在一个非负函数f使得 x一工.F(x，，xZ，…，x。)一J…J，(。:，…，。。)“1…du，对一切实数x;，…，、。成立，则称f是X的修率窜摩(probab皿ity de飞ity)，此时对任意BOrel集A cR“有 p万x。A飞=f…ff(。，.·…。_)du一d、. ‘A。任一满足条件 丁…Jf‘xl，一x·，dxl·““一‘的非负可积函数f都是某一随机向量的概率密度. 如果两个取值于R”的分别具有概率密度f和g的随机向量X和Y是独立的，那么随机向量X十Y具有概率密度h，它是f和g的卷积，即h(xl，…，x。)=一丁…丁f(x，一。，，…，x。一u。)。(。，，…，。。)以u，…J、一J…Jf(“，，…，。。)。(x，一，，…，x。一、)汉。，…d。。. 假设X=(戈，…，戈)和Y=(矶，…，气)是分别取值于R”和R用(n，m)l)中且具有概率密度f和夕的随机向量，而z=(戈，…戈，Y.，…，气)是取值于r+川中的随机向量.再若X和y独立，则Z具有概率密度h，称为随机向量X和Y的联合概率密度(joint Pro恤biljty dellsity)，此处h(t:，…，t。十。)=f(tl，…，t。)g(t。+1，…，t。*.)·(l)反之，若Z具有满足(l)的概率密度，则X和Y独立. 具有概率密度f的随机向量X的特征函数中可表示为 毋(tl，…，t。)= 一丁…丁。:‘!1二‘~“·’·，f(xl，一x。，dxl·‘·“x二这里，如果职是绝对可积的，则f是有界连续函数，且 f(x:，“·，x。)=二二头二f二卜一‘:1一‘，…’，(。:，…，:。)d才，…d。· (2二)”几或概率密度f和对应的特征函数价还通过下述关系式(Phnd犯rel埠等术(Phncherel汕mtity))相联系:函数厂是可积的，当且仅当!叫’是可积的，此时有 了…歹fZ(x卫，…，、)dx，…dx。 一典丁了…}’，，(。，，…，:。)一‘tl…己t。
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参考词条