1) X-ray mask
X射线掩膜
2) X-ray mask matetrial
X射线光刻掩膜材料
3) X-ray mask
X射线掩模
1.
In this paper,the home-made x-ray mask fabri-cation process is introduced firstly,then a two layer resists method which is used to fabricate deep-submicron T-shaped gate and some initial research results are described,and the domestic deep-submicron lithography status is analyzed .
本文中我们首先对我们的x射线掩模制造工艺进行介绍,然后论述了一种用于制造深亚微米T形栅的两层胶工艺,介绍了所取得的一些研究结果,最后对国内的深亚微米光刻现状进行了简要分析。
4) X-ray lithography .mask
X射线光刻掩模
5) X-ray photolithographic mask
X-射线光刻掩模
6) x ray film
x射线薄膜
补充资料：掩模版保护膜
分子式：
CAS号：
性质：一种很薄的光学透明膜，一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上，由框架来支承，并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封，防止沾污物，减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
CAS号：
性质：一种很薄的光学透明膜，一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上，由框架来支承，并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封，防止沾污物，减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条