1) titanium carbide film
碳化钛膜
2) TiC film
碳化钛薄膜
1.
Tlie high temperature corrosion behaviour of the TiC coating on a stainless steel substrateby CVD in a O2-Br2-Ar atmosphere in relation with the structure of TiC films,corrosion temperature and partial pressures of oxygen and bromine in the atmosphere was investigated.
探讨了在Ｏ２＋Ｂｒ２＋Ａｒ气氛中，耐热纲表面化学气相沉积碳化钛薄膜的高温腐蚀行为与碳化钛的组织形态、腐蚀温度、气氛中的氧分压和漠分压的关系。
3) Carbon-doped TiO_2 thin film
碳掺杂的二氧化钛薄膜
4) carbon doped TiO2 thin film
碳掺杂氧化钛薄膜
1.
Light absorption and the visible light catalytical activity of carbon doped TiO2 thin films with different content of carbon were studied by EDS,XRD,SEM,UV-VIS.
分别采用EDS、XRD、SEM、UV-VIS、罗丹明B光催化降解的方法对不同碳含量的碳掺杂氧化钛薄膜的光吸收性能以及可见光下的光催化活性进行研究。
5) Titanium carbonitride
碳(氮)化钛
6) Titanium carbide
碳化钛
1.
Preparing and gelcasting of high concentrated titanium carbide suspension;
高固相含量碳化钛悬浮体的制备和凝胶浇注成形
2.
A Ti(C, N)-based cermet with titanium carbide (TiC) additive was fabricated by the conventional powder metallurgy tech- nique.
用传统粉末冶金法制备了添加碳化钛(TiC)的Ti(C,N)基金属陶瓷。
3.
A method for the determination of microamount of sodium in titanium carbide samples by flame atomic emission spectrometry is reported in this paper.
对火焰原子发射光谱法测定碳化钛中微量钠的条件进行了试验。
补充资料：碳化钛膜
分子式：
CAS号：
性质：钛碳化合物的薄膜，一种重要的耐磨涂层。可以用化学气相沉积(CVD)、离子镀和溅射法制备。晶粒度一般在10～100nm范围，常有明显的(111)或(110)择优取向和较高的缺陷密度。硬度为HV27～30GPa(块体TiC为HV28GPa)。20世纪60年代末碳化钛曾作为硬质合金刀具耐磨镀层进入市场，但不久即为综合性能较好的CVDTiN取代，但作为氮化钛多层复合耐磨涂层的组元，碳化钛层一直在应用。碳化钛也用作黑色和灰色装饰层。
CAS号：
性质：钛碳化合物的薄膜，一种重要的耐磨涂层。可以用化学气相沉积(CVD)、离子镀和溅射法制备。晶粒度一般在10～100nm范围，常有明显的(111)或(110)择优取向和较高的缺陷密度。硬度为HV27～30GPa(块体TiC为HV28GPa)。20世纪60年代末碳化钛曾作为硬质合金刀具耐磨镀层进入市场，但不久即为综合性能较好的CVDTiN取代，但作为氮化钛多层复合耐磨涂层的组元，碳化钛层一直在应用。碳化钛也用作黑色和灰色装饰层。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条