1) electronic grade hydrogen bromide
电子级溴化氢
2) semiconductor hydrogen peroxide
电子级过氧化氢
1.
The present quality specifications of semiconductor hydrogen peroxide are introduced.
介绍了目前电子级过氧化氢的质量标准；分析了市场状况及其发展趋势；简述了工业生产中常用的几种生产方法。
2.
The direction ofthe research for semiconductor hydrogen peroxide is pointed out.
介绍了电子级过氧化氢产品用途、国内外生产与市场状况,指出我国在该领域与国外的差距;简述了树脂法-膜分离集成净化过氧化氢技术开发现状;并指出今后该技术的发展方向。
3) Hyoscyamine hydrobromide
溴化氢天仙子胺
4) electronic grade trichlorosilane
电子级三氯氢硅
5) HBr
溴化氢
1.
Determination of Hydrogen Bromide(HBr) in Ambient air Sample using Ion Chromatography;
环境空气中溴化氢离子色谱法测定
6) hydrobromic acid
溴化氢
1.
11-Bromoundecanoic acid was synthesized with 10-undecanoic acid and hydrobromic acid as raw materials.
以10-十一烯酸和溴化氢为原料合成11-溴代十一酸,考察了引发剂、溶剂、反应温度、后处理方法、熟化时间等因素对反应和产品的影响。
2.
A method for the determination of Acetic acid and Hydrobromic acid in air and environmental sample by ion-chromatography is described.
用同一吸收液采集、离子色谱法测定空气中的乙酸和溴化氢,采样体积为60L时,乙酸和溴化氢的检出限分别为0。
补充资料：电子级溴化氢
分子式：HBr
CAS号：
性质：在常温下为无色、有毒和有腐蚀性气体。与湿空气接触生成氢溴酸雾。易溶于水，可溶于非极性溶剂中。在钢制贮存容器中由于表面催化作用，溴化氢可分解成溴和氢。沸点-66.72℃。熔点-86.9℃。气体密度3.636kg/m3(101.3kPa，0℃)，液体密度2717kg/m3(-6713)。TLV3×10-6(10mg/m3)。其制法可采用氢和溴在350℃下，于载铂硅石上直接化合而成。粗产品经提纯，可制得纯度为99.99％的溴化氢产品。溴化氢在一些有机反应中用作反应制剂和催化剂。在兆位级集成电路制造中，溴化氢用量增长速度较快。
CAS号：
性质：在常温下为无色、有毒和有腐蚀性气体。与湿空气接触生成氢溴酸雾。易溶于水，可溶于非极性溶剂中。在钢制贮存容器中由于表面催化作用，溴化氢可分解成溴和氢。沸点-66.72℃。熔点-86.9℃。气体密度3.636kg/m3(101.3kPa，0℃)，液体密度2717kg/m3(-6713)。TLV3×10-6(10mg/m3)。其制法可采用氢和溴在350℃下，于载铂硅石上直接化合而成。粗产品经提纯，可制得纯度为99.99％的溴化氢产品。溴化氢在一些有机反应中用作反应制剂和催化剂。在兆位级集成电路制造中，溴化氢用量增长速度较快。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条