1) high-purity hexamethyldisilane
高纯六甲基二硅烷
2) hexamethyldisilazane
六甲基二硅胺烷
1.
KF/TEBA preasented reaction of aromatic aldehydes with hexamethyldisilazane and oxidation of its products;
EF／TEBA存在下六甲基二硅胺烷和芳香醛的反应及其产物三芳基缩二胺的氧化反应
2.
Plasma Polymerization of Hexamethyldisilazane;
六甲基二硅胺烷的等离子体聚合
3.
80 as raw material and hexamethyldisilazane as reactant in a homogeneous reactive system.
本文选用能够溶于有机溶剂的甲基纤维素(MC)为原料,以六甲基二硅胺烷(HMDS)作为三甲基硅基化试剂,通过均相反应很容易地制备了具有较高的取代度和良好的有机溶剂溶解性能的三甲基硅基甲基纤维素(TMS MC)。
3) hexamethyldisilane
六甲基二硅烷
1.
Research on the synthesis of hexamethyldisilane;
六甲基二硅烷的研究进展
2.
Preparation and Demethylation of Hexamethyldisilane;
三甲基氯硅烷和金属锂在ＴＨＦ中通过还原偶合反应生成六甲基二硅烷，反应后的ＴＨＦ和未反应的金属锂可以回收再用，并对反应有明显地促进作用，六甲基二硅烷的产率从５０％增加到７０％以上。
4) Hexamethyldisilazane
六甲基二硅氮烷
1.
Hydrolysis kinetics of hexamethyldisilazane(HMDS)was studied through gas chromatogram at various pH values and temperatures.
采用气相色谱仪分析的方法,考察了六甲基二硅氮烷在不同pH值、不同温度下的水解情况。
2.
Chlorotrimethylsilane and it's derivatives hexamethyldisilazane; (Bis-(trimethylsilyl))urea; heptamethyldisilazane were prepared from trimethylsilyl ethers; and then were analyzed.
本文重点研究了以工业回收的六甲基二硅氧烷为原料，合成三甲基氯硅烷及其下游产品六甲基二硅氮烷、六甲基二硅脲、七甲基二硅氮烷，并对各产物进行分析与表征。
5) hexamethyl disilazane
六甲基二硅胺烷
1.
The fresh plant leaves surfaces of more than 10 species were examined with scanning electron microscope after being treated by several drying methods such as hexamethyl disilazane drying microwave critical point drying and convertional critical point in order to find out suitable drying methods for different plant materials.
本实验采用六甲基二硅胺烷干燥法，单固定（戊二醛）微波辐射临界点干燥法，单固定（戊二醛）临界点干燥法及双固定（戊二醛、锇酸）临界点干燥法，对数十种植物叶片进行了干燥处理并用扫描电镜对其观察比较。
6) hexamethyl disiloxane
六甲基二硅氧烷
1.
Measurement and correlation of vapor-liquid equilibrium data for hexamethyl disilazane,hexane and hexamethyl disiloxane binary systems;
六甲基二硅氮烷、正己烷、六甲基二硅氧烷二元体系汽液平衡数据的测定与关联
2.
This work systematically studies the technology and process of N, N- bistrimethyl urea preparation from hexamethyl disiloxane, or HMDO for short, and expects to find an industrialized BSU synthesis line at a low cost.
本文对以六甲基二硅氧烷（Hexamethyl disiloxane, HMDO）为原料制备BSU的工艺过程进行研究，以期得到低成本的BSU工业化合成路线。
补充资料：高纯六甲基二硅烷
分子式：(CH3)6Si2
CAS号：
性质：可燃性液体。熔点12.5～14℃。沸点112～113℃。密度0.729g/cm3。纯度≥99.999％。分解温度600～800℃，采用精密精馏和分子蒸馏技术提纯。主要用以替代有毒且自燃的硅烷制III-V族半导体，尤其是GaAs的n型掺杂源。
CAS号：
性质：可燃性液体。熔点12.5～14℃。沸点112～113℃。密度0.729g/cm3。纯度≥99.999％。分解温度600～800℃，采用精密精馏和分子蒸馏技术提纯。主要用以替代有毒且自燃的硅烷制III-V族半导体，尤其是GaAs的n型掺杂源。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条