1) contact mask
接触孔掩模
2) chromium-in-contact mask
铬接触掩模
3) contact cobalt mask
接触型钴掩模
1.
The synchrotron radiation (SR) stimulated etching of SiO_2 thin film surface was investigated with a contact cobalt mask, and the etched pattern of SiO_2 thin films on silicon was made.
利用热氧化法在硅晶片上生长SiO2薄膜,结合光刻和磁控溅射技术在SiO2薄膜表面制备接触型钴掩模,通过掩模方法在硅表面开展了同步辐射光激励的表面刻蚀研究,在室温下制备了SiO2薄膜的刻蚀图样。
4) metal in-contact mask
金属耐接触掩模
5) contact mask printer
接触式掩模复制器
6) aperture mask
孔掩模
补充资料：接触孔掩模
分子式：
CAS号：
性质： 在半导体制造中的一步接触孔制作工序。在该工序中整个管芯表面放置一玻璃绝缘层，在稍后于晶片表面淀积一金属化层畴的互连金属导体必须同有源区相接触的位置，将玻璃绝缘层腐蚀成一些小孔。接触孔掩模即为决定这些小孔的制作过程。
CAS号：
性质： 在半导体制造中的一步接触孔制作工序。在该工序中整个管芯表面放置一玻璃绝缘层，在稍后于晶片表面淀积一金属化层畴的互连金属导体必须同有源区相接触的位置，将玻璃绝缘层腐蚀成一些小孔。接触孔掩模即为决定这些小孔的制作过程。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条