1) RF-IV method
RF-Ⅳ法
1.
This paper describes the principle of the RF-IV method for impedance measurement,mentions an error model of the RF-IV method and a calibration way which is used to solve the errors of the error model,writes up the details in calculating the residual errors and uncertainty evaluation for the impedance measurement,and then emphasizes a calibration kit used in the calibration process.
本文介绍了RF-Ⅳ法阻抗测量的原理,研究了RF-Ⅳ法阻抗测量的误差模型和对应的校准方法,同时介绍了校准方法中所采用校准件的结构及设计原理,提出了RF-Ⅳ法阻抗测量的剩余误差计算方法及测量不确定度评定原则,并将提出的不确定度评定原则在改造后的国家射频阻抗基准装置中进行了应用。
2) RF_PECVD
RF-PECVD方法
3) R.F. Sputtering
RF溅射法
4) cerimetric titration
铈Ⅳ量法
5) RF resonance method
RF共振方法
6) RF_sputtering
RF溅射方法
补充资料：Rf-COOH-Rf-SO3H
分子式：
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条