1) hydrogen dilution profiling
氢稀释调制
1.
Using the novel hydrogen dilution profiling technique, the μc-Si: H thin films with incubation layer less than 10 nm and X_c uniformly distributed have been achieved.
采用氢稀释调制技术,成功地控制非晶孵化层厚度小于10nm,获得了晶化度纵向均匀的微晶硅薄膜。
2) hydrogen dilution
氢稀释
1.
Effects of hydrogen dilution on SiCl_n(n=0-2) densities in deposition process of nano-crystalline silicon film by SiCl_4/H_2;
用SiCl_4/H_2沉积纳米晶硅薄膜过程中氢稀释量对SiCl_n(n=0～2)密度的影响
2.
Effect of hydrogen dilution on structure and optical properties of polycrystalline silicon films;
氢稀释对多晶硅薄膜结构特性和光学特性的影响
3.
Effect of hydrogen dilution on crystalline properties of nano-crystalline silicon thin films in fast growth
氢稀释对高速生长纳米晶硅薄膜晶化特性的影响
3) H_2 concentration
氢稀释度
4) H_2 dilution ratio
氢稀释率
5) Heavily hydrogen dilution
高氢稀释法
6) μc-Si:H thin film
氢稀释度D
补充资料：1,3-丁二烯与甲基苯调制物
CAS：28327-92-6
分子式：(C11H14)x
中文名称：1,3-丁二烯与甲基苯调制物
英文名称：1,3-Butadiene, telomer with methylbenzene
分子式：(C11H14)x
中文名称：1,3-丁二烯与甲基苯调制物
英文名称：1,3-Butadiene, telomer with methylbenzene
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条