补充资料：光学掩模版

分子式：
CAS号：

性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。

说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。