1) dual frequency capacitive coupled plasma
双频电容耦合放电等离子体
2) Dual-frequency capacitively coupled plasma
双频容性耦合等离子体
1.
Dual-frequency capacitively coupled plasma (DF-CCP) is one of the crucial components for etching in microelectronic manufacturing, and has been widely used in the next generation etching applications due to its simple structure and ability to control the plasma density, the ion energy distributions(IEDs), and the ion angle distributions(IADs) separately.
双频容性耦合等离子体(dual-frequency capacitively coupled plasma DF-CCP)源是半导体工业中重要的刻蚀设备,由于其可以产生大面积均匀的等离子体,通过调节高、低频源的放电参数可以有效地控制等离子体密度与离子能量、角度分布,并且结构简单成本较低,符合工业生产上的要求,双频CCP源被广泛应用在新一代的半导体刻蚀机的生产上。
5) inductive coupled RF plasma
电感耦合RF放电等离子体
1.
From plasma wave equations and plasma kinetic equation, we analytically discussed the characteristic of current in an inductive coupled RF plasma and their damping mechanism.
从等离子体波动方程和动力学方程出发,利用解析方法,讨论电感耦合RF放电等离子体的电流特性和衰减机制。
6) Inductively coupled plasma-atomic emission spectrometry
电感耦合高频等离子体原子发射光谱
补充资料：电容耦合高频等离子体焰炬
分子式：
CAS号：
性质：以小于300MHz射频为辐射频率，工作频率在10～100MHz的一种电容耦合等离子体光源。该光源由三极管振荡器供给能量，并传到电容器尖形电极上，在尖端产生高场强。当其周围气体电离时，便发生放电火炬，且维持不熄。待测试液通过载气雾化后，吸喷到放电区进行激发。作为原子发射光谱分析光源。
CAS号：
性质：以小于300MHz射频为辐射频率，工作频率在10～100MHz的一种电容耦合等离子体光源。该光源由三极管振荡器供给能量，并传到电容器尖形电极上，在尖端产生高场强。当其周围气体电离时，便发生放电火炬，且维持不熄。待测试液通过载气雾化后，吸喷到放电区进行激发。作为原子发射光谱分析光源。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条