1) laser trim table
光刻平台
1.
This paper discusses the laser trim table control development and design of laser resistor trimming system from the following aspects.
本文从以下几方面对激光调阻机的光刻平台系统进行了控制研究与设计： 结合实验分析了光刻平台的动、静态性能和定位精度对电阻光刻质量的影响，并针对目前最微小的0402型号电阻对光刻平台提出了控制要求。
3) wafer inspection station
硅片光刻检验台
4) optical table
光学平台
1.
Optimal design of vibration isolation system parameters of an optical table;
光学平台隔振系统结构参数的优化设计
5) Opto-Electronic Platform
光电平台
1.
Study on Low-Speed Problem of Airborne Opto-Electronic Platform;
机载光电平台低速问题研究
2.
Study on Stabilization and Track Control Techniques of Airborne Opto-Electronic Platform;
机载光电平台的稳定与跟踪伺服控制技术研究
3.
In stabilizing and tracking system of opto-electronic platform, a stabilizing control loop must be designed firstly because of various external disturbances.
机载光电平台稳定与跟踪系统由于受到外部各种干扰的影响,需要首先建立一个稳定控制回路。
6) optoelectronic platform
光电平台
1.
Developing trend and technological analysis of warplane optoelectronic platforms
军用飞机光电平台的研发趋势与技术剖析
2.
The influences of the working environment and the angle vibration for optoelectronic platform on the imaging quality have been analyzed.
分析了光电平台的工作环境和角振动对成像质量的影响,应用空间机构学原理和减振理论,设计了一种既具减振功能又能抑制角位移的无角位移减振机构。
3.
The optoelectronic platform on moving vehicle is an effective method to acquire the image information because of such characteristics as good real-time,accuracy,agility and pertinence.
动载体光电平台具有强时效性、高准确度、机动灵活、针对性强的特点,是获取信息的有效手段。
补充资料：负性光刻胶
分子式：
CAS号：
性质：光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺，具有加工精度高，容易自动化等特点，广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化，以实现对被照材料本身或者被其覆盖材料加工处理的聚合材料。在这类材料中最重要的是在集成电路、激光照排制版和印刷电路制备中使用的光刻胶。根据光与聚合物之间发生的作用机理不同，可以分成光聚合或光交联型光刻胶，也称为负性光刻胶；光分解型光刻胶，也称为正性光刻胶。除了光刻胶之外，光敏涂料，光敏胶等在广义上也属于光加工高分子材料。采用激光引发聚合直接将聚合物零件加工成型的方法也引起工业界的广泛关注，成为结构复杂高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成员，其特点是摆脱了模具束缚，可以完全由计算机设计、控制加工。
CAS号：
性质：光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺，具有加工精度高，容易自动化等特点，广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化，以实现对被照材料本身或者被其覆盖材料加工处理的聚合材料。在这类材料中最重要的是在集成电路、激光照排制版和印刷电路制备中使用的光刻胶。根据光与聚合物之间发生的作用机理不同，可以分成光聚合或光交联型光刻胶，也称为负性光刻胶；光分解型光刻胶，也称为正性光刻胶。除了光刻胶之外，光敏涂料，光敏胶等在广义上也属于光加工高分子材料。采用激光引发聚合直接将聚合物零件加工成型的方法也引起工业界的广泛关注，成为结构复杂高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成员，其特点是摆脱了模具束缚，可以完全由计算机设计、控制加工。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条