1)  Design Rule
场景设计规则
2)  scene
场景
1.
Analysis of three irrational scenes in the Couvent Sainte-Marie-De-La Tourette;
对柯布西耶设计的修道院中的非理性场景解析
2.
A method for ascertaining parameter of Viewpoint node in VRML scene;
确定VRML虚拟场景中视点参数的一种方法
3)  scenario
场景
1.
Two software architecture evaluation methods based on scenario;
基于场景的两种软件体系结构评估方法
2.
Construction of Intrusion Detection Model for Scenario-based and State Transition Analysis;
基于场景和状态转换分析的入侵检测模型的构建
3.
Description frame for scenario specifications based on component behaviors;
基于构件行为的场景建模框架
4)  scenes
场景
1.
Scenes of "The Female Other": A Study of Modern Female Drama;
“她人”场景：现代女性戏剧论
2.
This paper analyzes the symbolic meanings of the name,characters and scenes in The Iceman Cometh and concludes that this play is a symbol of human being s existential predicament.
本文从象征意义的角度对剧名、角色和场景进行分析,得出这部戏剧就是人类生存困境的隐喻和象征。
3.
The writer considers that the walls not only represent scenes and the switchover functions of the scenes, but also represent special aesthetic images.
认为它不仅具有场景和场景转换的功能,还具有作为传统道德礼法规范的象征和作为情感寄托和情感发展脉络等独特的审美意象,是帮助观影者加深对电影本文的理解、开启影片独特审美意蕴的一把钥匙。
5)  Settings
场景
1.
It explores the settings, dramatic methods and irony that portray the character s personality profoundly.
在该小说中 ,海明威主要运用了场景手法、戏剧手法和嘲弄手法塑造人物的个性。
6)  setting
场景
1.
Its beauty lies in characters,setting,imagery and the use of verbs.
唐代咏侠诗的阳刚美风格主要体现在其人物、场景、意象及动词使用等几个方面。
2.
This paper will explore the comic and menacing factors in "The Dumb Waiter" through the analysis of the structure,setting and language.
本文从结构安排、场景设置、语言特点三个方面探讨品特《送菜升降机》中的喜剧性和威胁性。
3.
This paper mainly concerns the core stereotypical pattern, which is subdivided into three forms, namely event, setting and role.
核心型常规范型有三种主要形态 ,即事件形态、场景形态和角色形态。
参考词条
补充资料：集成电路版图设计规则
    　　集成电路版图设计规则的作用是保证电路性能，易于在工艺中实现，并能取得较高的成品率。版图设计规则通常包括两个主要方面：①规定图形和图形间距的最小容许尺寸；②规定各分版间的最大允许套刻偏差。
　　
　　集成电路制作中，各类集成元件、器件及其间的隔离与互连等是在一套掩模版的控制下形成的。一套掩模版通常包括 4～10块分版。每一块分版是一组专门设计的图形的集合，整套版中的各分版相互都要能精密地配合和对准。整套掩模版图形(简称版图)的设计，是把电路的元件、器件和互连线图形化，用它来控制制备工艺，使集成电路获得预期的性能、功能和效果。例如，增强型负载硅栅N沟道MOS型集成电路需要4块分版,分别用以确定有源区、多晶硅、接触孔和铝连线。4组图形的规则是：
　　　 有源区条宽与间距
　　
　　
　　
　　 6μm/6μm
　　　 多晶硅条宽与间距
　　
　　
　　
　　 8μm/6μm
　　　 接触孔尺寸
　　
　　
　　
　　
　　　 6μm×6μm
　　　 铝连线条宽与间距
　　
　　
　　
　　 6μm/6μm
　　　 多晶硅-有源区套刻量(ɑ)
　　
　　　 2μm
　　　 多晶硅出头长度(b)
　　
　　
　　
　　4μm
　　　 接触孔-有源区套刻量(c)
　　
　　　 2μm
　　　 接触孔-有源区上多晶硅套刻量(d)　 4μm
　　　 接触孔-隔离区上多晶硅套刻量(e)　 2μm
　　　 铝连线-接触孔套刻量(f)
　　
　　　 2μm
　　
　　
　　不同类型的集成电路所需要的分版数不同，具体的版图设计规则也有差异。但制定版图设计规则的基本原则则是一致的:①需要考虑工艺设备状况(如光刻机的分辨率和对准精度)和工艺技术水平（如工艺加工中,图形尺寸侧向变化量和控制）；②避免寄生效应对集成电路的功能与电学性能的有害影响。
　　
　　通常称允许的最小图形尺寸的平均值为特征尺寸。它是对集成电路集成密度的度量，是集成电路工艺技术水平的一种标志。
　　

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