1) process driving and monitoring
过程推动与跟踪
2) process tracking/monitoring
过程跟踪与监控
1.
Thus,the functional and information models are established to track/monitor the whole production process in workshop and,based on it,a production-oriented process tracking/monitoring system is developed for manufacturing workshop in CIMS environment utilizing COM+.
以某企业制造过程管理与资源优化配置系统研究与开发为背景,分析了车间生产过程跟踪管理的业务流程,建立了完整的车间级生产过程跟踪与监控系统功能模型和信息模型。
4) process tracking
过程跟踪
1.
Covering such functional modules for data communication, management, process tracking and model computation, they are used correspondingly for data communication among the process control system and other system; database reading/writing, model parameter querying for computation and actual process parameter recording for each and every workpiece, position/data tracking for workpieces.
针对首钢新建3500mm中厚板轧机,自主设计开发了完整的两级计算机控制系统·在过程控制系统中包括了数据通讯、数据管理、过程跟踪和模型计算等主要功能·数据通讯模块负责过程控制系统和其他系统的数据通讯;数据管理模块负责数据库的读写,为模型计算查询模型参数,记录每块轧机的实际工艺过程参数等;过程跟踪模块负责轧件加工过程位置和数据跟踪,并在不同的触发点调用其他功能模块,进行自动轧钢的轧件调度控制和轧制节奏控制;模型计算模块利用数学模型,进行轧机的轧制规程计算和控冷系统的控制参数计算·通过各功能模块的协作,可以实现轧机生产过程的模型自动设定和全自动轧钢控制·该系统已经在现场成功使用
2.
According to the plate production process and analysis of domestic actualities,the whole process tracking for the plate production line is divided into three parts:position micro-tracking,process tracking and material tracking,with a consolidated scheme determined to implement the tracking procedure.
根据对中厚板生产线的工艺和对国内具体现场条件的分析,将全线跟踪功能分成位置微跟踪、过程跟踪和物料跟踪三个层次,确定了实现中厚板生产线全线跟踪功能的总体方案。
5) Process Tracker
过程跟踪器
1.
The Action of Application Program Process Tracker;
过程跟踪器在信息管理系统中的应用
补充资料：正规过程和倒逆过程
讨论完整晶体中声子-声子散射问题时,由于要求声子波矢为简约波矢（见布里渊区），所得到的总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量G)。例如对于三声子过程有下列条件
， (1)
式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢，式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)＝0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧，这时散射使声子传播方向发生了倒转，故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数，而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高，简约区边界附近的声子有较多激发时，U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
k+G＝k┡±q，
(2)
式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中，总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处，连续媒质对无穷小平移具有不变性，才能求得总波矢守恒，而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性，因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
， (1)
式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢，式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)＝0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧，这时散射使声子传播方向发生了倒转，故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数，而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高，简约区边界附近的声子有较多激发时，U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
k+G＝k┡±q，
(2)
式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中，总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处，连续媒质对无穷小平移具有不变性，才能求得总波矢守恒，而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性，因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条