1) vapor deposition thin films at low temperature
低温气相沉积
1.
The vapor deposition thin films at low temperature have good process performance and tribological characteristics.
工艺性能良好、摩擦学特性满足工程应用实际需求的低温气相沉积工艺的研究，为低温回火材料及聚合物等温度敏感材料零部件的表面改性提供了一种新的和有效的技术解决方案，对于开发无污染环保型表面改性处理技术意义重大。
2) low temperature chemical vapor deposition
低温化学气相沉积
3) LTCVD
低温气相化学沉积
1.
A silicalite 1 zeolite membrane was in situ crystallized from a layer of silica species prepared by a novel method of low temperature chemical vapor deposition (LTCVD) on a porous cordierite substrate.
本文在制备沸石膜的过程中采用新颖的低温气相化学沉积 (ＬＴＣＶＤ)法引入合成所需的硅源 。
4) Low Temperature plasma enhance chemical vapour deposition
低温等离子增强化学气相沉积
5) low temperature deposition
低温沉积
1.
Study on TiC black film by low temperature deposition with alkane/alkyne gas;
烷/炔气低温沉积TiC黑膜的研究
2.
Therefore it is a valid way to realize low temperature deposition of AIP.
结果表明,与直流偏压相比,脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度,大大减少薄膜表面的大颗粒污染,改善表面形貌,而薄膜的综合力学性能仍保持良好,说明利用脉冲偏压技术是实现电弧离子镀低温沉积的有效途径。
6) vapor deposition
气相沉积
1.
Fabricating ceramic hard thin films by vapor deposition techniques;
气相沉积技术制备TiN类硬质膜
2.
The fabrication of TiO_2 nanotubules in porous anodic aluminum template with vapor deposition;
利用气相沉积法在模板中制备TiO_2纳米管的研究
3.
Synthesis of monodisperse Cu nano-particle template by vapor deposition
气相沉积法制备单分散Cu纳米颗粒模板
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条